8联室连续式多靶镀膜设备，镀膜室永久保持高真空状态，避免了常规单机镀膜工艺镀膜室暴露大气而污染。闭环传动多靶连续镀膜保证了产品膜色的一致性更好，解决了困扰业界多年管子间膜色差异的问题，膜层更均匀，附着力更牢固；抗高、低温性更强；大大提高了吸收率，降低了反射比。设备连续运行重复性更优越，真正实现了镀膜工艺的全自动工业化生产。通过真空品质的提高和磁控溅射紫色膜层的配合，增加吸收比，降低发射比。由普通的真空管的真空夹层的气体压强P≤5.0X10-2Pa.吸收涂层的吸收比а≥0.86(AM1.5);吸收涂层的发射比为εh≤0.08(80℃±5℃)；吸气镜面长度消失率＜50%。改变为现在的分子级高真空紫金管的真空夹层的气体压强P≤2.0X10-3Pa.吸收涂层的吸收比а≥0.88(AM1.5);吸收涂层的发射比为εh≤0.075(80℃±5℃)；镜面长度消失率＜45%。
