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水印去除方法、装置及存储介质专利摘要

2022/07/16159 作者:佚名
导读:本公开涉及一种水印去除方法、装置及存储介质。水印去除方法,包括:针对存在水印的待处理图像,获取所述待处理图像中的水印位置;根据所述待处理图像,得到色调饱和度明度HSV空间的待处理HSV图像,对所述待处理HSV图像的明度V通道进行处理,得到目标HSV图像;根据所述目标HSV图像中所述水印位置的图像,得到水印掩膜;根据所述水印掩膜,对所述待处理图像进行图像修补处理,得到修补后去除水印的图像。通过本公开

本公开涉及一种水印去除方法、装置及存储介质。水印去除方法,包括:针对存在水印的待处理图像,获取所述待处理图像中的水印位置;根据所述待处理图像,得到色调饱和度明度HSV空间的待处理HSV图像,对所述待处理HSV图像的明度V通道进行处理,得到目标HSV图像;根据所述目标HSV图像中所述水印位置的图像,得到水印掩膜;根据所述水印掩膜,对所述待处理图像进行图像修补处理,得到修补后去除水印的图像。通过本公开,可准确的确定水印图形,水印去除准确。

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