基本介绍

项目编号Plan Name in Chinese 20110426-T-610

中文项目名称Plan Name in Chinese 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

英文项目名称Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application

制\修订Plan Name in English 制定

被修订标准号Replaced Standard

采用国际标准Adopted International Standard 无

采用国际标准号Adopted International Standard No

采用程度Application Degree

采标名称Adopted International Standard Name

标准类别Plan Name in English 产品

国际标准分类号(ICS)

计划完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年

完成时间Achievement Time

所处阶段Plan Phase 起草阶段

国家标准号Standard No.

备注Remark 国标委综合[2011]57号

起草单位Drafting Committee 有研亿金新材料股份有限公司

主管部门Governor 中国有色金属工业协会

归口单位Technical Committees 243 全国有色金属标准化技术委员会