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等离子体增强化学气相沉积系统技术指标

2022/07/16219 作者：佚名
导读：（1） 极限真空为3×10-4 Pa;在真空室下方设一个气体截流阀，截流阀连续可调，控制反应室的工作气压。衬底可升降200mm，衬底旋转，转速为30～60转/分;基片加热为700±1℃; （2） 喷淋头分为三层结构，上部水冷，喷口处要求绝缘;Zn源管可拆卸，便于清洗， Zn源管与O源孔位的加工，必须使布气均匀;四周有石英罩，距样品台边缘距离20-30mm，电离电极侧进口。

（1） 极限真空为3×10-4 Pa;在真空室下方设一个气体截流阀，截流阀连续可调，控制反应室的工作气压。衬底可升降200mm，衬底旋转，转速为30～60转/分;基片加热为700±1℃; （2） 喷淋头分为三层结构，上部水冷，喷口处要求绝缘;Zn源管可拆卸，便于清洗， Zn源管与O源孔位的加工，必须使布气均匀;四周有石英罩，距样品台边缘距离20-30mm，电离电极侧进口。

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