钕铁硼镀镍实际上也是多层镀层，需要先预镀镍以后，再经镀铜加厚，然后表面镀光亮镍。

①预镀镍

硫酸镍：300g/L，pH值：4.O～4.5，氯化镍：50g/L，温度：50～60℃，硼酸：40g/L，电流密度：0.5～1.5A/dm2添加剂适量时间5min

②焦磷酸盐镀铜加厚。作为中间镀层，尽管流行采用酸性光亮镀铜工艺，但是对于钕铁硼材料，进行加厚电镀不宜采用酸性镀铜，这是因为在强酸性镀液中，已经预镀了阴极镀层的多孔性材料会很容易发生基体微观腐蚀;为以后延时起泡留下隐患。比较合适的工艺是接近中性的焦磷酸盐镀铜。

焦磷酸铜：70g/L，光亮剂：适量，焦磷酸钾：300g/L，pH值：8～8.5，柠檬酸铵：30g/L，温度：40～50℃，氨水：3mL/L，电流密度：l～1.5A/dm2。

③光亮镀镍硫酸镍：300g/L，商业光亮剂按说明书加入，氯化镍：40g/L，pH值：3.8～5.2，硼酸：40g/L，温度：50℃，低泡润湿剂：lmL/L，阴极电流密度：2～4A/dm2。

对于需要其他表面镀层的钕铁硼材料，可以在完成中间镀层的铜加厚电镀后，再进行其他表面镀层的加工。有时为了增加镀层的厚度和可靠性，还可以在焦磷酸盐镀后再加镀快速酸性镀铜工艺，以获得良好的表面装饰性，再镀其他镀层会有更好的效果。进行这些电镀操作的要点是一定要带电下槽和中途不能断电，否则会对孔隙中镀液的作用而对基体造成微观腐蚀，影响结合力。