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高频放电简介

2022/07/16264 作者:佚名
导读:放电现象和结果 高频放电可以产生稳定的大体积的等离子体,因而是等离子体成膜和刻蚀技术中最常用的放电形式。通常所用的电源频率是13.56兆赫,这是因为国际电讯管理局为了防止高频电磁波辐射的能量对通信的干扰,对工业用的频率范围做了规定,其中包括13.56兆赫这个频率。但辉光放电的非线性效应可使放电回路内出现基频的许多谐波,仍有影响通信的高次频波从放电回路中发射出来,在回路中这些谐波辐射的能量比基频波辐

放电现象和结果

高频放电可以产生稳定的大体积的等离子体,因而是等离子体成膜和刻蚀技术中最常用的放电形式。通常所用的电源频率是13.56兆赫,这是因为国际电讯管理局为了防止高频电磁波辐射的能量对通信的干扰,对工业用的频率范围做了规定,其中包括13.56兆赫这个频率。但辉光放电的非线性效应可使放电回路内出现基频的许多谐波,仍有影响通信的高次频波从放电回路中发射出来,在回路中这些谐波辐射的能量比基频波辐射的要小得多。

*文章为作者独立观点,不代表造价通立场,除来源是“造价通”外。
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