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一种金属基超导带材及其制备方法专利摘要

2022/07/16174 作者:佚名
导读:本发明属于超导体技术领域,具体涉及一种金属基超导带材及其制备方法。一种金属基超导带材的制备方法,包括如下步骤:1)采用脉冲激光沉积方法在所述金属基带表面形成薄膜:在脉冲激光沉积方法中,采用Fe(1‑x)SeyTe(1‑y)靶材或Fe(1 x)SeyTe(1‑y)靶材,其中0≤x≤0.1,0.1≤y≤0.9;2)将所述薄膜利用磁控溅射法在表面沉积保护层。利用本发明方法可以快速、连续制备出铁基超导带材

本发明属于超导体技术领域,具体涉及一种金属基超导带材及其制备方法。一种金属基超导带材的制备方法,包括如下步骤:1)采用脉冲激光沉积方法在所述金属基带表面形成薄膜:在脉冲激光沉积方法中,采用Fe(1‑x)SeyTe(1‑y)靶材或Fe(1 x)SeyTe(1‑y)靶材,其中0≤x≤0.1,0.1≤y≤0.9;2)将所述薄膜利用磁控溅射法在表面沉积保护层。利用本发明方法可以快速、连续制备出铁基超导带材,制备得到的超导带材具有良好的C轴取向、光滑的表面、高超导转变温度和高临界电流密度。

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