第1章绪论

1.1机械零部件的失效

1.2磨损失效

1.3腐蚀失效

1.4低温等离子体表面强化

参考文献

第2章等离子体与等离子体源

2.1等离子体的概念和特点

2.1.1等离子体

2.1.2等离子体产生的方式

2.1.3等离子体的温度

2.1.4等离子体的特点

2.2冷等离子体

2.2.1直流辉光放电等离子体

2.2.2脉冲辉光放电等离子体

2.2.3磁控等离子体

2.2.4电容耦合射频等离子体

2.2.5电感耦合射频等离子体

2.2.6微波等离子体

2.3热等离子体

2.3.1电弧

2.3.2真空电弧等离子体

2.3.3等离子弧

2.3.4等离子弧的压缩作用

2.3.5等离子弧的分类

2.3.6等离子弧的特点

2.4等离子体源

2.4.1热阴极等离子体源

2.4.2电容耦合射频等离子体源

2.4.3电感耦合射频等离子体（ICP）源

2.4.4螺旋波等离子体源

2.4.5微波等离子体源

2.4.6空心阴极等离子体源

2.4.7金属蒸气真空电弧（MEVVA）等离子体源

2.4.8磁控管

参考文献

第3章等离子体辅助物理气相沉积

3.1物理气相沉积的概念和分类

3.2溅射沉积

3.2.1溅射沉积的原理

3.2.2直流溅射沉积

3.2.3射频溅射沉积

3.2.4磁控溅射沉积

3.3真空电弧沉积

3.3.1真空电弧沉积的原理及其优缺点

3.3.2真空电弧沉积的宏观颗粒污染

3.3.3阳极电弧沉积

3.4离子镀

参考文献

第4章等离子体增强化学气相沉积

4.1等离子体增强化学气相沉积的原理

4.1.1等离子体对CVD过程的影响

4.1.2PECVD沉积薄膜的形成过程

4.2等离子体增强化学气相沉积的特点

4.2.1PECVD的优点

4.2.2PECVD的缺点

4.3等离子体增强化学气相沉积技术

4.3.1PECVD技术分类

4.3.2PECVD工艺装置

4.3.3PECVD工艺参数

4.3.4直流等离子体增强化学气相沉积技术（DC—PECVD）

4.3.5脉冲直流等离子体增强化学气相沉积（脉冲DC—PECVD）

4.3.6射频等离子体增强化学气相沉积（RF—PECVD）

4.3.7微波等离子体增强化学气相沉积（MW—PECVD）

4.3.8电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积（ECR—PECVD）

参考文献

第5章等离子化学热处理

5.1等离子渗氮

5.1.1等离子渗氮原理

5.1.2等离子渗氮钢的组织

5.1.3等离子渗氮工艺参数

5.1.4等离子渗氮设备

5.1.5等离子渗氮优缺点

5.1.6等离子渗氮新进展

5.2等离子渗碳

5.2.1等离子渗碳原理

5.2.2等离子渗碳组织

5.2.3等离子渗碳工艺参数

5.2.4等离子渗碳设备

5.2.5等离子渗碳优缺点

5.3等离子渗氮碳

5.3.1等离子渗氮碳原理

5.3.2等离子渗氮碳组织

5.3.3等离子渗氮碳工艺参数

5.4等离子渗金属

5.4.1双层辉光等离子渗金属原理

5.4.2双层辉光等离子渗金属组织

5.4.3双层辉光等离子渗金属工艺参数

5.4.4双层辉光等离子渗金属特点

5.4.5双层辉光等离子渗金属设备

5.4.6双层辉光等离子渗金属技术的发展

参考文献

第6章等离子体浸没离子注入与沉积

6.1等离子体浸没离子注人原理

6.1.1等离子体浸没离子注入原理

6.1.2动态鞘层扩展模型

6.1.3PIII的优缺点

6.2PIII设备

6.2.1真空系统

6.2.2等离子体源

6.2.3高压系统

6.2.4供气系统

6.3等离子体浸没离子注入与沉积

6.4金属等离子体浸没离子注入与沉积

6.5PIIID在耐磨防腐方面的应用

参考文献