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建设工程知识

光刻掩模光刻工艺对掩膜版的质量要求

2022/07/16267 作者：佚名
导读：（1）图形尺寸准确，符合设计要求，且不发生畸变。 （2）应有一定数量完全相同的图形，整套掩模版中的各次版应能依次一一套住，套准误差应尽量小。 （3）图形黑白域之间的反差要高，一般要求在2.5以上。 （4）图形边缘应光滑，无毛刺，过渡区要小（即“黑区”应尽可能陡直地过渡到“透明区”）。 （5）版面平整、光洁、无针孔、划痕和小岛。 （6）版面坚固耐用，不易变形。

（1）图形尺寸准确，符合设计要求，且不发生畸变。

（2）应有一定数量完全相同的图形，整套掩模版中的各次版应能依次一一套住，套准误差应尽量小。

（3）图形黑白域之间的反差要高，一般要求在2.5以上。

（4）图形边缘应光滑，无毛刺，过渡区要小（即“黑区”应尽可能陡直地过渡到“透明区”）。

（5）版面平整、光洁、无针孔、划痕和小岛。

（6）版面坚固耐用，不易变形。

*文章为作者独立观点，不代表造价通立场，除来源是“造价通”外。
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