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(光刻工艺套准)

2022/07/16183 作者:佚名
导读:套准是指集成电路制造光刻工艺中,各功能层之间图形相对位置准确度所达到的允许范围 。 中文名 套准 外文名 registration 在某给定的集成电路或器件的一套掩模正确叠加时,其中每一块的掩模的全部功能图形与其他任何一块掩模版上相应图形相对位置的准确度达到允许的范围 。或者说,半导体集成电路工艺中所有功能层之间相互叠加时,各层之间的图形相对位置的准确度达到允许的范围 。

套准是指集成电路制造光刻工艺中,各功能层之间图形相对位置准确度所达到的允许范围 。

中文名
套准
外文名
registration

在某给定的集成电路或器件的一套掩模正确叠加时,其中每一块的掩模的全部功能图形与其他任何一块掩模版上相应图形相对位置的准确度达到允许的范围 。或者说,半导体集成电路工艺中所有功能层之间相互叠加时,各层之间的图形相对位置的准确度达到允许的范围 。

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