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微电子制造技术概论作者简介

2022/07/16132 作者:佚名
导读:严利人,先后从事集成电路工艺参数测试、氧化扩散、光刻、工艺设备、流程管理等VLSl制造实践工作。目前主要的研究方向为工艺分析诊断、光刻工艺设备及工艺技术、VLSl自动化制造等,并在VLSl自动化制造系统的研究和工艺流程开发规律、自动流程卡生成、高效率工艺调度等方面取得阶段性成果。

严利人,先后从事集成电路工艺参数测试、氧化扩散、光刻、工艺设备、流程管理等VLSl制造实践工作。目前主要的研究方向为工艺分析诊断、光刻工艺设备及工艺技术、VLSl自动化制造等,并在VLSl自动化制造系统的研究和工艺流程开发规律、自动流程卡生成、高效率工艺调度等方面取得阶段性成果。

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