第1章 统计过程控制原理及应用流程

1.1 概述

1.2 过程概念

1.3 过程变差

1.4 局部措施和系统性措施

1.5 统计过程控制

1.6 控制特性、子组和监控频率的确定

1.7 过程(控制)分类

1.8 统计过程控制(SPC)的三个目标

1.9 从工程分析、在线控制到持续改进的基本程序

第2章 测量系统分析简单介绍

2.1 测量系统分析相关术语和概念

2.2 测量系统评定注意事项

2.3 测量系统分析流程

2.4 结果分析

2.5 计量型测量系统分析方法

第3章 常见的计量型数据控制图

3.1 均值和极差控制图(X拔-R图)

3.2 均值和标准差控制图(X拔-S图)

3.3 单值和移动极差控制图(X-MR图)

3.4 特别情况下的统计技术

3.5 作业指导书的要求和控制图的转换

第4章 常见的计数型数据控制图

4.1 概述

4.2 不合格品率的P图

4.3 不合格品数的np图

4.4 不合格品数的c图

4.5 单位产品不合格数的μ图

第5章 实施sPC的常见错误分析

5.1 测量误差较大的情形

5.2 分辨率的影响

5.3 过程或取样分层

5.4 总体单值截尾的情况

5.5 其他例子

第6章 案例分析

6.1 抽样和分组

6.2 目标和离散的影响

6.3 归一化处理

6.4 利用控制图进行持续改进

第7章 电子元器件统计过程控制体系

7.1 概述

7.2 电子元器件统计过程控制体系的一般要求

7.3 预防性维护与预测性维护

7.4 SPC体系内审

7.5 SPC体系实施计划编制指南

7.6 实施SPC的流程

附录一 控制图的计算公式和系数

附录二 标准正态函数表

参考文献2100433B