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金属镀膜系统技术指标

2022/07/16150 作者：佚名
导读：镀膜均匀性在4inch范围内优于±3%。（硅片上300nm Al膜）芯片间蒸镀精度误差小于5%。

镀膜均匀性在4inch范围内优于±3%。（硅片上300nm Al膜）芯片间蒸镀精度误差小于5%。

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