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建设工程知识

金属陶瓷电阻薄膜制备

2022/07/1669 作者：佚名
导读：薄膜采用射频溅射制备，靶由高纯钛板和SiO2片构成。通过改变钛和SiO2的面积比，可得到成分不同的Ti-SiO2膜，膜厚为250~300nm。

薄膜采用射频溅射制备，靶由高纯钛板和SiO2片构成。通过改变钛和SiO2的面积比，可得到成分不同的Ti-SiO2膜，膜厚为250~300nm。

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