TDM-300膜层监控仪适用于高频溅射、直流溅射、电阻蒸发、离子束、电子束等镀膜应用场合，可对共沉积镀膜进行多源同步监控，或对大面积镀膜进行多点监控。
仪器提供了完备的监测和控制功能, 具有高速高精度测量系统，保证镀膜的质量和重复性。通过液晶显示屏使您能连续获取沉积数据，包括沉积速率、厚度和晶片频率。更可通过计算机得到实时数据及动态和静态数据曲线，方便用户对工艺过程进行分析。
▲ 适用于多种镀膜应用
TDM-300膜层监控仪可对最多六个沉积源同时进行监控。既可应用于对大面积镀膜进行多点监控，监控镀膜均匀性；也可用于监控共沉积镀膜，而且用户可以编辑含有若干共沉积层和单一材料层的膜系；还能作为多台顺序沉积监控仪使用。
