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本文公开的实施例总的来说涉及用于等离子体处理设备的泵送系统。所述泵送系统包括：第一泵路径、第二泵路径、第一阀和第二阀。第一泵路径将处理腔室的基板支撑组件的开口耦接至处理腔室的排气口。第二泵路径将基板支撑组件的开口耦接至处理腔室的抽气区域。第一阀位于第一泵路径中。第一阀可在第一状态和第二状态之间配置。第二阀位于第二泵路径中。第二阀可在第一状态和第二状态之间配置。2100433B
