本项目提出了一种将光敏材料引入至光学薄膜干涉滤光片，通过激光照射使器件光学性能跳频的思想。这一技术一方面使得干涉滤光片具有激光修正这一崭新而诱人的性能，另一方面可以制作任意轮廓的空间分布滤波器以及全新的光致限幅器件。项目计划理论上分析光敏层中的电场强度分布及其引起的折射率变化对滤光片光学性能的影响；建立任意轮廓的空间滤光片所对应的光敏层折射率分布模型。实验上探索制备较大折射率变化且性能稳定的光敏薄膜的最佳工艺条件，研究光强值/照射时间与折射率变化之间的精确关系。在此基础上通过激光修正实现光学性能超均匀样品的制作；结合激光扫描制备切趾滤光片样品；应用硫属化物As2S3的光敏特性制作光致限幅器件。这可以大幅度提高高性能滤光片的生产成品率，克服传统光学薄膜技术在新应用领域的困难，因而具有重要的应用前景。 2100433B
