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单晶硅生长炉基本介绍

2022/07/16220 作者:佚名
导读:1、主机部分: ●机架,双立柱 ●双层水冷式结构炉体 ●水冷式阀座 ●晶体提升及旋转机构 ●坩埚提升及旋转机构 ●氩气系统 ●真空系统及自动炉压检测控制 ●水冷系统及多种安全保障装置 ●留有二次加料口 2、加热器电源: 全水冷电源装置采用专利电源或原装进口IGBT及超快恢复二极管等功率器件。配以特效高频变压器,构成新一代高频开关电源。采用移相全桥软开关(ZVS)及CPU独立控制技术,提高了电能转换

1、主机部分:

●机架,双立柱

●双层水冷式结构炉体

●水冷式阀座

●晶体提升及旋转机构

●坩埚提升及旋转机构

●氩气系统

●真空系统及自动炉压检测控制

●水冷系统及多种安全保障装置

●留有二次加料口

2、加热器电源:

全水冷电源装置采用专利电源或原装进口IGBT及超快恢复二极管等功率器件。配以特效高频变压器,构成新一代高频开关电源。采用移相全桥软开关(ZVS)及CPU独立控制技术,提高了电能转换效率,不需要功率因数补偿装置。

3、计算机控制系统:

采用PLC和上位工业平板电脑PC机,配备大屏幕触摸式HMI人机界面、高像素CCD测径ADC系统和具有独立知识产权的“全自动CZ法晶体生长SCADA监控系统”,可实现从抽真空—检漏—炉压控制—熔料—稳定—溶接—引晶—放肩—转肩—等径—收尾—停炉全过程自动控制。

*文章为作者独立观点,不代表造价通立场,除来源是“造价通”外。
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