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双面精密研磨抛光机可以对硅、氧化硅材料进行减薄以及抛光处理。实现对于加工后的粗糙硅表面进行减薄、平坦化以及二次平整的工艺步骤，以保证后续硅硅键合或者光刻工艺的顺利进行。该设备的最终处理对象为不平整的硅表面、氧化硅表面，实现样品的厚度减薄或实现表面平整化与抛光。 2100433B
