精品文献
半导体废水处理
半导体生产含砷废水处理回用工程
半导体生产含砷废水处理回用工程
采用沉淀法—电絮凝法—气浮法—膜分离法四段组合工艺对含砷废水进行处理,原水含砷180~230 mg/L,经该工艺处理后出水含砷99.9%.工程运行实践证明:该系统运行稳定、处理效果高,产出的清水用作生产用循环冷却水,大大降低了生产成本.
半导体厂含氟废水处理工程改造
半导体生产废水中氟化物浓度较高,原有除氟工艺为二级加药[石灰、Al2(SO4)3]、二级沉淀,但出水氟化物不能达标。现将工艺调整为原水与石灰反应后即直接与Al2(SO4)3反应,再沉淀,同时改善反应条件。在基本不增加总投药量的情况下,出水氟化物浓度可稳定控制在8.0mg/L左右,达到了广东省《水污染物排放限值》(DB 44/26—2001)的一级标准。