精品文献
半导体制造技术
半导体制冷技术原理与应用
半导体制冷技术原理与应用——文章介绍了半导体制冷原理及特点，半导体制冷技术的应用，半导体制冷技术研究热点及前景展望，
晶圆封装测试工序和半导体制造工艺流程
A.晶圆封装测试工序 一、 IC 检测 1. 缺陷检查 Defect Inspection 2. DR-SEM(Defect Review Scanning Electron Microscopy) 用来检测出晶圆上是否有瑕疵，主要是微尘粒子、刮痕、残留物等问题。此外，对已印有电 路图案的图案晶圆成品而言，则需要进行深次微米范围之瑕疵检测。一般来说，图案晶圆检 测系统系以白光或雷射光来照射晶圆表面。再由一或多组侦测器接收自晶圆表面绕射出来的 光线，并将该影像交由高功能软件进行底层图案消除，以辨识并发现瑕疵。 3. CD-SEM(Critical Dimensioin Measurement) 对蚀刻后的图案作精确的尺寸检测。 二、 IC 封装 1. 构装（ Packaging ） IC 构装依使用材料可分为陶瓷（ ceramic ）及塑胶（ plastic ）两种，而目前商