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磁控溅射原理

2024.04.27

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磁控溅射原理
磁控溅射镀膜锦纶织物的耐磨性研究 磁控溅射镀膜锦纶织物的耐磨性研究

磁控溅射镀膜锦纶织物的耐磨性研究

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以钛金属为靶材、以锦纶织物为基体,通过改变溅射时间,溅射功率和溅射气压,制备出钛金属镀膜锦纶织物试样,然后进行摩擦试验.采用扫描设备获得了织物摩擦前后的图像,利用软件neoimaging测试织物组织点处的亮度,以相对亮度的变化反映镀膜的磨损.研究表明:随着溅射时间和溅射功率的增加,镀膜的耐磨性提高;较为合适的溅射气压是0.5~3 Pa,溅射气压过高,耐磨性反而降低.

塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究 塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究

塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究

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在光学塑料表面上运用磁控溅射镀制的单质金属铝膜,常出现膜层与基片的附着力差的问题。本文结合光学塑料的性质,通过薄膜附着力理论分析,提出在工艺上改进铝膜附着力的方法。通过实验证明其方法的可行性。

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