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蓝宝石基片的超光滑表面抛光技术
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页数: 3页
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文中介绍了蓝宝石基片的主要抛光方法,包括浮法抛光、机械化学抛光、化学机械抛光和水合抛光等,对它们的工作原理、特点作了分析和总结。
纳米抛光液
大小:122KB
页数: 1页
随着半导体工业的飞速发展,化学机械抛光(CMP)渐成为集成电路制造中的一项关键工艺,其中抛光液是化学机械抛光过程中重要的消耗品,长期以来国内主要硅材料厂及半导体元件厂依赖进口产品,不仅价格昂贵,而且受制于人。中科院上海微系统所纳米技术研究室CMP小组开展了“纳米抛光液产业化关键技术”研究,
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