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铜表面镀什么不吸磁
H59黄铜表面发黑镀黑铬
H59黄铜表面镀黑铬新工艺研究 摘要：电镀方法制备黑铬镀层是进一步提高黄铜耐磨性及降低光学仪器中黄铜对光 的反射率的有效途径。 本研究是在 H59黄铜的表面通过电镀黑铬方法制备铬镀层以达到 表面改性的目的。实验中，黄铜通过超声波清洗、碱性除油、酸洗、活化的前处理后采 用成分不同的镀液配方施镀。本研究在总结镀铬工艺成功经验的基础上，对黄铜进行了 镀前表面活化，通过多次实验得到活化液最佳配方为 60%磷酸、 8%硝酸混合溶液，该活 化液能有效去除黄铜表面的钝化膜，且对黄铜基体的腐蚀小。经过多次试验得出结论： 将试样在碱液中碱洗 3分钟，活化三分钟，采用电流密度为 35mA时得到的镀层最光亮、 均匀，晶粒细致。通过电镀前后试样重量差计算沉积效率，利用光学显微镜对镀层进行 了金相组织分析，采用扫描探针显微镜（ AFM）对镀层表面形貌进行观察，利用 x 衍射 技术（ XRD）对镀层的物相结构进行分析
玻璃表面化学镀纳米铜膜
玻璃表面化学镀纳米铜膜
利用化学镀铜工艺,以十二烷基苯磺酸钠(SDBS)作为镀液添加剂,在未经刻蚀的玻璃表面制备了纳米铜膜。采用FESEM、SEM和XRD等技术对铜膜表面、断面形貌及晶体结构进行了表征。结果表明,铜膜内团簇尺寸非常细小,晶粒尺寸约为15.5~28.3 nm,且存在较强的〈111〉织构。采用四探针法测量铜膜的电阻率,并讨论了电阻率随沉积时间增加而逐渐下降的原因。