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涂料的工艺原理
自洁涂料的自清洁应用原理
自洁涂料的自清洁应用的原理 污物不易附着防静电防污 超亲水、防污常温氧化硅涂膜剂 ３种划时代机能 １、超亲水机能的自洁性 使用数种类的硅、根据超亲水性微粒子的 Flanctal 理论相乗的超亲水性、发现强力的自我洗 浄性。 2～15纳米 20～ 50纳米 基材⋯玻璃、ＰＣ、不锈钢、瓷砖 ※Flanctal 理论⋯根据表面微細的凹凸、亲水效果增强的理论。 凹凸严谨均一并排时为超防水、不均一并排时为超亲水。 使用数种类的氧化硅和单项纳米材料成功地作成 50纳米以下的凹凸。由此形成与 光触媒无关、常时超亲水膜。 2,由于防静电机能使污物不易附着 超微粒子酸化錫（ＳｎＯ 2）即ＡＴＯ含有许多自由电子、电流抵抗値低、 （表面抵抗値～ 10Ω 8）不吸着空气中浮遊的微细的尘埃和粒子、使尘埃和排气烟灰不易附着。特别是 中国、石炭灰和黄砂的污染严重、光触媒无法分解，所以最需求的是防静电机能。 3,抗菌机能
声表面波器件工艺原理-1清洗工艺原理
声表面波工艺原理 第一章 清洗工艺原理 Page 1 of 5 一，声表器件清洗工艺原理 序： 声表器件制作工艺中的清洗技术及洁净度是影响器件合格率、 器件性能和可靠性的重要因 素。杂质污染主要来源于晶片加工过程、环境污染、水（包括纯水）污染、试剂污染、工艺 气体污染、生产用设备、器皿、工具及易耗品污染、人体污染和工艺过程造成的污染。由于 表面污染是通过污染物与表面间的作用力引起（主要是化学力和分子间力） ，清洗就是为破 坏这种作用力，除去由上述污染源所带来的有机物、微粒、金属原子（离子）及微粗糙。 （一）对基片表面的清洗： 由于有机物会遮盖部分基片表面，影响对微粒和金属的清洗，所以清洗的一般思路是： 先除去表面的有机污染，然后再去除微粒和金属杂质。 1，对有机物的清洗： 基片上的有机污染主要有油膜、 残余的蜡膜胶膜、 不纯有机溶剂挥发后的残膜， 以及微生 物的有机残渣、 手油等。 这些杂
