选择特殊符号
选择搜索类型
请输入搜索
第1章 薄膜与高新技术
第2章 真空技术基础
2.1 真空的基本知识
2.2 真空的表征
2.3 气体分子与表面的相互作用
第3章 真空泵与真空规
3.1 真空泵
3.2 真空测量仪器——总压强计
第4章 真空装置的实际问题
4.1 排气的基础知识
4.2 材料的放气
4.3 排气时间的估算
4.4 实用的排气系统
4.5 检漏
4.6 大气温度与湿度对装置的影响
4.7 烘烤用的内部加热器
4.8 化学活性气体的排气
第5章 气体放电和低温等离子体
5.1 带电粒子在电磁场中的运动
5.2 气体原子的电离和激发
5.3 气体放电发展过程
5.4 低温等离子体概述
5.5 辉光放电
5.6 弧光放电
5.7 高频放电
5.8 磁控放电
5.9 低压力、高密度等离子体放电
第6章 薄膜生长与薄膜结构
6.1 薄膜生长概述
6.2 吸附、表面扩散与凝结
6.3 薄膜的形核与生长
6.4 连续薄膜的形成
6.5 薄膜的生长过程与薄膜结构
6.6 非晶态薄膜
6.7 薄膜的基本性质
6.8 薄膜的粘附力和内应力
6.9 电迁移
第7章 表面结构与薄膜的外延生长
7.1 理想表面结构
7.2 清洁表面结构
7.3 实际表面结构
7.4 薄膜的外延生长
7.5 影响薄膜外延的因素
第8章 薄膜沉积的共性问题
8.1 成膜工艺与膜材料简介
8.2 源和膜的成分——如何得到所需要的膜成分
8.3 附着强度——如何提高膜层的附着强度
8.4 台阶涂敷,绕射着膜率,孔底涂敷——如何在大凹凸表面沉积厚度均匀的膜层
8.5 等离子体及其在薄膜沉积中的作用——膜质的改善、新技术的开发
8.6 基板的传输机构
8.7 膜层中的针孔和超净工作间
第9章 真空蒸镀
9.1 概述
9.2 镀料的蒸发
9.3 蒸发源
9.4 蒸发源的蒸气发射特性与基板配置
9.5 蒸镀装置及操作
9.6 合金膜的蒸镀
9.7 化合物膜的蒸镀
9.8 脉冲激光熔射(PLA)
9.9 分子束外延技术
第10章 离子镀和离子束沉积
10.1 离子镀的原理
10.2 离子镀的类型及特点
10.3 离子束沉积
10.4 离子束混合
第11章 溅射镀膜
11.1 离子溅射
11.2 溅射镀膜方式
11.3 磁控溅射源
11.4 溅射镀膜的实例
第12章 化学气相沉积(CVD)
12.1 热氧化、氮化
12.2 热CVD
12.3 等离子体CVD(PCVD)
12.4 光CVD(photo CVD)
12.5 有机金属CVD(MOCVD)
12.6 金属CVD585
12.7 半球形晶粒多晶Si"para" label-module="para">
12.8 铁电体的CVD
12.9 低介电常数薄膜的CVD
第13章 干法刻蚀
13.1 干法刻蚀与湿法刻蚀
13.2 等离子体刻蚀——激发反应气体刻蚀
13.3 反应离子刻蚀(RIE)
13.4 反应离子束刻蚀(RIBE)
13.5 气体离化团束(GCIB)加工技术
13.6 微机械加工
13.7 干法刻蚀用离子源的开发
第14章 平坦化技术
14.1 平坦化技术的必要性
14.2 平坦化技术概要
14.3 不发生凹凸的薄膜生长
14.4 沉积同时进行加工防止凹凸发生的薄膜生长
14.5 薄膜生长后经再加工实现平坦化
14.6 埋入技术实例
14.7 化学机械研磨(CMP)技术
14.8 气体离化团束(GCIB)加工平坦化
14.9 镶嵌法布线及平坦化
14.10 平坦化技术与光刻制版术
第15章 薄膜材料
15.1 金属薄膜材料
15.2 无机、陶瓷薄膜材料
15.3 有机、聚合物薄膜材料
15.4 半导体薄膜材料
第16章 薄膜材料的应用
16.1 表面改性
16.2 超硬膜用于切削刀具
16.3 能量变换薄膜与器件
16.4 传感器
16.5 半导体器件
16.6 记录与存储
16.7 平板显示器
16.8 金刚石薄膜的应用
16.9 太阳能电池
16.10 发光器件
第17章 薄膜材料的评价表征及物性测定
17.1 薄膜材料评价表征的特殊性
17.2 薄膜材料评价表征方法及其选择
17.3 薄膜材料的评价表征
17.4 相关技术和装置
17.5 薄膜材料评价表征举例
17.6 薄膜材料的物性测定
附录A 各种元素的温度—蒸气压特性
附录B 元素的电离电位
附录C 物理常数表
附录D(新旧)常用计量单位对照与换算
附录E 能量换算表、压力换算表及气体的性质表
附录F 半导体大规模集成电路的发展预测
附录G 示屏的图像分辨率等级、图像分辨率(像素数)和宽高比
附录H 元素周期表
附录I 薄膜技术与薄膜材料领域常用缩略语注释
参考文献
薄膜技术与薄膜材料,书名,关于薄膜及微细加工技术的应用范围,从大规模集成电路、电子元器件、平板显示器、信息记录与存储、MEMS、传感器、太阳能电池,到材料的表面改性等,涉及高新技术产业的各个领域。本书内容包括真空技术基础、薄膜制备、微细加工、薄膜材料及应用、薄膜成分与结构分析等5大部分,涉及薄膜技术与薄膜材料的各个方面,知识全面,脉络清晰。全书共17章,文字通俗易懂,并配有大量图解,有利于对基本知识的理解、掌握与运用。
对于从事相关行业的科技工作者与工程技术人员,本书具有极为难得的参考价值,同时也是其他感兴趣读者了解薄膜材料与技术在高新技术中应用的一本很好的入门书籍。
当固体或液体的一维线性尺度远远小于其他二维时,我们将这样的固体或液体称为膜。通常,膜可分为两类,一类是厚度大于1微米的膜,称为厚膜;另一类则是厚度小于1微米的膜,称为薄膜。 半导体功能器件和光学镀膜是...
塑料包装及塑料包装产品在市场上所占的份额越来越大,特别是复合塑料软包装,已经广泛地应用于食品、医药、化工等领域,其中又以食品包装所占比例最大,比如饮料包装、速冻食品包装、蒸煮食品包装、快餐食品包装等,...
石墨烯,六方氮化硼,一系列过渡金属硫化物(比如二硫化钼,硒化钼,二硫化钨,二硒化钨等等),正在写二维范德瓦尔斯材料的论文,随手加上几个,望采纳
塑料薄膜材料都有哪些?
最常见的塑料薄膜包装材料 饮料包装、 速冻食品包装、 蒸煮食品包装、 快餐食品包装⋯⋯这都是我们常见到的塑料 薄膜包装材料, 给我们的生活带来了极大的便利, 除了在食品包装上的应用, 还广泛应用于 食品、医药、化工等领域。下面就为大家简单介绍几种最为常见的塑料薄膜包装材料。 双向拉伸聚丙烯薄膜 (BOPP) 双向拉伸聚丙烯薄膜是由聚丙烯颗粒经共挤形成片材后, 再经纵横两个方向的拉伸而获 得的。由于拉伸分子定向,所以此薄膜的物理稳定性、机械强度、气密性较好,透明度和光 泽度较高,坚韧耐磨,是目前应用最广泛的印刷薄膜。一般使用厚度为 20~40μm,应用最 广泛的为 20μm。其主要缺点是热封性差,所以一般用做复合薄膜的外层薄膜,如与聚乙烯 薄膜复合后防潮性、透明性、强度、挺度和印刷性均较理想,适用于盛装干燥食品。由于双 向拉伸聚丙烯薄膜的表面为非极性,结晶度高,表面自由能低,因此,其印刷性能
透明耐磨薄膜材料的研究进展
透明耐磨薄膜材料性能优良,应用广泛。本文简述了透明耐磨薄膜的性能,种类和制备方法及研究重点和发展方向。
本书系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本理论和基本知识,重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学和物理沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征、对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评论和展望。
本书适合于从事材料研究的科研技术人员、相关专业的大专院校师生阅读和参考,同时也可作为研究生教材使用。
薄膜及微细加工技术的应用范围极为广泛,从大规模集成电路、电子元器件、平板显示器、信息记录与存储、MEMS、传感器、白光LED固体照明、太阳能电池到材料的表面改性等,涉及高新技术产业的各个领域。本书内容包括真空技术基础、薄膜制备、微细加工、薄膜材料及应用等4大部分,涉及薄膜技术与薄膜材料的各个方面,知识全面,脉络清晰。全书共17章,文字通俗易懂,并配有大量图解,每章后面附有习题,有利于对基本概念和基础知识的理解、掌握与运用。本书可作为材料、机械、精密仪器、化工、能源、微电子、计算机、物理、化学、光学等学科本科生及研究生教材,对于从事相关行业的科技工作者与工程技术人员,也具有极为难得的参考价值。
《纳米光电薄膜材料》内容新颖,深入浅出,适于作为高年级本科生和研究生的教学参考书,有助于他们在学习纳米光电薄膜材料的过程中掌握基本原理和实验方法,《纳米光电薄膜材料》也可供从事相关领域研究的科研人员参考。