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磁控溅射硅靶材及绑定靶材

《磁控溅射硅靶材及绑定靶材》是2018年5月29日实施的一项行业标准。

磁控溅射硅靶材及绑定靶材基本信息

中文名磁控溅射硅靶材及绑定靶材
外文名Magnetron sputtering silicon targets and bound targets
标椎编号T/CAS 304—2018
国民经济分类C381 电机制造
发布日期2018年05月29日
实施日期2018年05月29日

磁控溅射硅靶材及绑定靶材起草单位

青岛蓝光晶科新材料有限公司、大工(青岛)新能源材料技术研究院有限公司、河北东同光电科技有限公司、大连理工大学。

磁控溅射硅靶材及绑定靶材造价信息

市场价
信息价
询价

磁控溅射

规格型号：
颜色:紫色;品种:玻璃贴膜;规格:SS55;厚度(mm):2mil;可见光反射率(%):11/11;紫外线阻隔率UVR(%):≧99;可见光
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
北京力盾宏达科技有限公司
报价时间：
2022-12-08

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磁控溅射

规格型号：
颜色:紫色;品种:玻璃贴膜;规格:SS35;厚度(mm):2mil;可见光反射率(%):21/21;紫外线阻隔率UVR(%):≧99;可见光
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
北京力盾宏达科技有限公司
报价时间：
2022-12-08

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磁控溅射贵金属

规格型号：
颜色:紫色;品种:玻璃贴膜;规格:ST40;厚度(mm):2mil;可见光反射率(%):35/35;紫外线阻隔率UVR(%):≧99;可见光
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
北京力盾宏达科技有限公司
报价时间：
2022-12-08

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磁控溅射镀膜玻璃

规格型号：
规格型号:5茶
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
福耀玻璃工业集团股份有限公司郑州销售
报价时间：
2022-12-08

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磁控溅射镀膜玻璃

规格型号：
规格型号:5
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
福耀玻璃工业集团股份有限公司郑州销售
报价时间：
2022-12-08

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石材磨孔机

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台班
材料税率：
地区时间：
韶关市2010年8月信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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提升架钢材

规格型号：
价格行情：
材料单位：
kg
材料税率：
地区时间：
肇庆市2004年2季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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提升架钢材

规格型号：
价格行情：
材料单位：
kg
材料税率：
地区时间：
肇庆市2003年3季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

查看价格

提升架钢材

规格型号：
价格行情：
材料单位：
kg
材料税率：
地区时间：
肇庆市2004年1季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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钢材电动煨弯机

规格型号：
弯曲直径500-1800
价格行情：
材料单位：
台班
材料税率：
地区时间：
汕头市2006年2月信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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靶板

规格型号：
靶板一、箱式激波靶板 1.支持头、胸、身、精度胸环靶板 2.靶面耐打击,恢复性好,每平方厘米受弹量≥10发 3.子弹穿过靶面后,弹孔收缩,弹孔直径不超过1.5mm 4.受单量:头靶板≥4000发
需求量：
10块
报价数：
3
材料品牌：
材料档次：
中高档
费用说明：
不含税费 | 含运费
询价时间：
2022-10-11

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脚靶

规格型号：
型号:TSE1014.1.材质:高质PU、规格:60cm×40cm×10cm;2.装箱数量:4个/箱;3.产品说明:大型力量胸靶.主要用于跆拳道联系中的力量训练,靶面呈人性化的弯面弧度,带来最佳的击打感觉,有效提升训练效果.
需求量：
40个
报价数：
1
材料品牌：
泰山
材料档次：
中高档
费用说明：
不含税费 | 不含运费
询价时间：
2021-09-17

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手靶

规格型号：
TSE1015型,材质:高质PU/超纤真皮/精选牛皮,规格:38cm×18cm,装箱数量:50个/箱产品说明:高质材料的靶面配合优质填充料,不仅轻便,而且结实耐用.靶身的设计能带来手感和击打感的有效
需求量：
40个
报价数：
1
材料品牌：
泰山
材料档次：
中高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2021-09-10

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光学靶自动报靶系统

规格型号：
小口径手枪靶光学报靶系统主要技术指标:竞赛/训练控制切换视窗触屏交互;当前弹着显示/投影支持独立和集中显示;当前射击弹着点反馈时速小于0.1″;支持射手竞赛/训练成绩统计分析;支持射击成绩输出/打印
需求量：
3组(一组5套)
报价数：
1
材料品牌：
-
材料档次：
中高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2021-03-05

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光学靶自动报靶系统

规格型号：
小口径步手枪光学报靶系统主要技术指标:竞赛/训练控制切换视窗触屏交互;当前弹着显示/投影支持独立和集中显示;当前射击弹着点反馈时速小于0.1″;支持射手竞赛/训练成绩统计分析;支持射击成绩输出/打印/编辑/云存储;适配同品牌/同类别射击设备端口/数据连接产品通过中国射击协会认证符合国际国内比赛要求
需求量：
15套
报价数：
1
材料品牌：
-
材料档次：
中高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2021-03-05

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磁控溅射硅靶材及绑定靶材主要技术

本标准规定了磁控溅射硅靶材的分类及牌号、原料、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、供货状态及订货单（或合同）内容。 本标准适用于半导体等电子器件用的各种磁控溅射硅靶材。2100433B

磁控溅射硅靶材及绑定靶材适用范围

本标准规定了磁控溅射硅靶材的分类及牌号、原料、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、供货状态及订货单（或合同）内容。本标准适用于半导体等电子器件用的各种磁控溅射硅靶材。

磁控溅射硅靶材及绑定靶材常见问题

靶材是什么

靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系...
关于ito靶材的绑定技术、不是制造ito而是绑定技术。

绑定其实就是焊接的一种，可以理解为钎焊或者扩散焊，但要求在真空炉中进行焊接，在需要绑定的两种材料之间加上焊料（一般为低熔点的高纯金属铟），加压加温，最终焊接成型，管状ITO应该可以考虑套管或者其他类似...
ito靶材是什么

ITO靶材是高纯三氧化二铟和二氧化锡粉末按照重量比9/1或95/5(最常用）混合均匀后，加压烧结成陶瓷片状，再加工成靶材成品，用作溅射镀制TCO透明导电薄膜，由于氧化铟价格较高，所以I...

磁控溅射硅靶材及绑定靶材起草人

张磊、姜大川、崔娜、李鹏廷、谭毅、顾正、石爽、康明生、朱辉、郄奕、张卫、姚玉杰、陈良杰、李云飞、王登科。

磁控溅射硅靶材及绑定靶材文献

锌铝合金靶材

锌铝合金靶材

锌铝合金靶材

格式：pdf

大小：378KB

页数： 4页

锌概况（Survey）：锌（ Zinc ）是一种化学元素，它的化学符号是 Zn，它的原子序数是 30。性状（Character ）：锌是一种浅灰色的过渡金属。锌是一种青白色、光亮、具有反磁性的金属，虽然一般用作商品的锌都经过加工，这些特性已不再鲜明。物理性质（ Physical property）：状态：固态密度（接近室温） :7.14 g·cm-3 熔点时液体密度 :6.57 g·cm-3 熔点 :692.68 K，419.53 °C，787.15 °F 沸点 :1180 K，907 °C，1665 °F 熔化热 :7.32 kJ·mol-1 汽化热 :123.6 kJ·mol-1 原子性质（ Atomic properties ）：氧化态 :+2, +1, 0 （两性氧化物）电负性 :1.65（鲍林标度）原子半径 :134 pm 共价半径 :12

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三柱靶磁控溅射镀膜机在工艺品装饰镀中的应用

三柱靶磁控溅射镀膜机在工艺品装饰镀中的应用

三柱靶磁控溅射镀膜机在工艺品装饰镀中的应用

格式：pdf

大小：378KB

页数： 3页

将三柱靶磁控溅射镀膜机应用于工艺品装饰镀生产中,开发多种镀膜工艺并进行了批量生产,实践证明:三柱靶磁控溅射镀膜技术结合特制的衬底漆和保护面漆涂装工艺,能够在工艺品上获得合格的装饰层。拓展该技术在工艺品行业的应用,可有效减轻传统电镀对环境的污染。

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靶材简介

材质分类 金属靶材 镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、铬靶Cr、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铝靶Al、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶ZrAl、钛铝靶TiAl、锆靶Zr、铝硅靶AlSi、硅靶Si、铜靶Cu、钽靶Ta、锗靶Ge、银靶Ag、钴靶Co、金靶Au、钆靶Gd、镧靶La、钇靶Y、铈靶Ce、不锈钢靶、镍铬靶NiCr、铪靶Hf、钼靶Mo、铁镍靶FeNi、钨靶、W等。 陶瓷靶材 ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。 合金靶材 铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。

铜靶材用途

适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。

铝靶材用途

适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铝靶材的价格较低，所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。

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