残留物，在人身安全和环保方面超过了行业标准。A4520在低温和低浓度下仍保持非常好的效果。

≈ 闪点： 无闪点

≈ 沸点： 114℃

≈ 操作温度： <70℃

 ≈ 使用浓度： <20%

气体圈子11月11日讯，国家科技部重点研发专项——“微纳电子制造用超高纯电子气体”项目启动会昨日在浙江衢州召开。

国家科技部高技术中心材料处专项主管杨斌向获得国家重点研发“微纳电子制造用超高纯电子气体”的项目团队表示祝贺。“国家重点研发计划实施以来，在管理上发生了很大的改革和变化，已从原来过程监控管理转变为目标管理、静态管理变为动态管理、阶段性管理变成全过程跟踪管理。”杨斌强调，要发挥项目牵头承担单位法人的主体责任，与协作单位共同推动项目的发展。

微纳电子制造用超高纯电子气体

研究内容：研究超高纯电子气体提纯/除杂/纯化原理与制备方法、特定元素控制技术及全流程工艺优化集成技术，研制开发微纳电子制造用氯气、氯化氢、氟化氢等超高纯电子气体，突破5N级气体制备技术及关键装备技术、ppm级气体杂质和ppb级金属离子检测技术、生产环境和颗粒控制技术以及产品包装与应用技术。

考核指标：超高纯气体氯气、氯化氢纯度5N～7N，其中单种气体杂质（如H2O、O2、CO2、CO、CH4）＜1.0 ppmv，单种金属杂质（如Al、Cr、Cd、Cu）＜1.0 ppbw；超高纯气体氟化氢纯度不低于5N，其中单种金属杂质（如Al、Cr、Cd、Cu）＜1.0 ppbw。

微纳电子制造核心材料急需国产化

微纳电子先进制程正向大尺寸、窄线宽、高集成度、高均匀性和高完整性发展，对电子气体的品质也提出更高的要求。Cl₂、HCl 和HF 等电子气体产品是微纳电子制造的核心材料，具有强烈嗜水性、腐蚀性和反应性，其提纯除杂、包装、检测对材料、设备的耐蚀性要求严苛，高纯制备核心技术为跨国公司垄断并严密封锁，“国产化”需求迫切，急需国内有研发与产业化实力的单位牵头进行技术攻关与工程化开发。

科技部重点研发专项“微纳电子制造用超高纯电子气体”

“微纳电子制造用超高纯电子气体”是2017年国家重点研发计划“战略性先进电子材料”专项项目，由巨化集团下属全资子公司浙江博瑞电子科技有限公司牵头，联合浙江师范大学、浙江氟硅技术研究院、浙江凯圣氟化学有限公司、中芯国际集成电路制造（上海）有限公司、深圳市华星光电技术有限公司和浙江工程设计有限公司等6家单位共同申报，并于今年8月获得国家科技部立项支持，用以解决Cl₂、HCl和HF高纯制备中影响气体纯度与一致性的关键共性科学问题和技术瓶颈为研究目标，突破Cl₂、HCl和HF的提纯除杂、检测、包装工艺，实现超高纯Cl₂、HCl和HF电子气体的工业化制备和制程应用，促进微纳电子制造用战略性先进材料的国产化。

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来源：阳光巨化

编辑：气体圈子