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WSi2常被用于微电子中作为触电材料,其中电阻是60-80μΩcm。同时它也经常被用多晶硅线上的分流器,从而增加多晶硅线的导电性和信号速度。
二硅化钨相关的系统编号如下所示:CAS系统编号:12039-88-2,PubChem号:16212546。
它的物理性质如下所示:化学分子式:WSi2,熔点2165℃,密度是9.3g·cm3,熔点2160℃(3920 °F ,2,430K),具有良好的抗氧化性,溶于氟王水,但是不溶于水。二硅化钨的化学性质如下所示:它可以和许多的物质发生剧烈反应,例如强酸、氟、氧化剂和卤间化合物等。
硅砂是重要的工业矿物原料,广泛用于玻璃、铸造、陶瓷及耐火材料、冶金、建筑、化工、塑料、橡胶、磨料等工业。一、玻璃:平板玻璃、浮法玻璃、玻璃制品(玻璃罐、玻璃瓶、玻璃管等)、光学玻璃、玻璃纤维、玻璃仪器...
这个太多了,一切可装饰面上都可以用的。现在家庭和工装上用的特备多,应为花样多变价格又不贵成为了主流装饰。
现代用于高能物理、核物理和其他科学技术领域的各种类型探测器件和装置,都是基于上述三种类型探测器件经过不断改进创新而发展起来的。
硅化加固地基施工
施工技术交底记录 单位工程名称: 年 月 日 交底项目 硅化加固地基施工 交底人 施工班组 内容摘要: 1、配合比情况; 2、冬、雨季施工注意要点; 3、工艺标准及质量 要求; 4、保证质量具体措施; 5、容易忽略的其他问题。 一、施工操作工艺 1.硅化加固地基常用流程有三种: 单液注浆工艺流程: 机具设备安装→定位打管 (钻)→封孔→配置浆液、 注浆→拔管→管 子冲洗、填孔→辅助工作。 双液注浆工艺流程: 机具设备安装→定位打管 (钻)→封孔→配甲液、 注浆→冲管→配乙 液、注浆→拔管→管子冲洗、填孔→辅助工作。 加气硅化注浆工艺流程: 机具设备安装→定位打管 (钻)→封孔→加气→配置浆液、 注浆 →加气→拔管→管子冲洗、填孔→辅助工作。 2.机具设备安装程序为: 但是先将钻机或三角架安放与预定孔位, 调好高度和角度 然后将注水泵和管道 (包括浆管吸砂管、回浆管 )连接好;再安装压力表,
硅化加固地基施工计算
硅化加固地基施工计算
蓝灰色四方晶体,熔点>900℃,化合物 二硅化钨Tungsten Silicide(WSi2)
三硅化钨又名三硅化五钨,是一种四方晶体,它的物理性质如下所示:分子式:W5Si3,分子量:1003.77,熔点2320℃,约在1450℃时分解,在空气中于500~700℃开始氧化,溶于HNO3+HF混合酸中。
硅化钨的制备方法:
(1)将钨粉和硅粉按摩尔比1:2配料,将钛粉与石墨粉按摩尔比1:1配料,然后分别混合均匀。
(2)将W-Si混合粉装在坩埚中央,Ti-C混合粉均匀装在W-Si混合粉与坩埚之间,最后在所有混合粉的顶部装一层Ti-C混合粉,坩埚内所装的Ti-C混合粉与W-Si混合粉的重量比例为(0.8~1.2):1
(3)将装混合粉的坩埚装入一个密闭的反应器中,抽真空后充入氩气,然后用钨丝通电引发混合料间的反应。
(4)冷却后取出反应后的物料,将碳化钛与二硅化钨分开,分别破碎后得到碳化钛和二硅化钨粉末。