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PMOS管原理

PMOS管原理

PMOS的工作原理与NMOS相类似。因为PMOS是N型硅衬底,其中的多数载流子是电子,少数载流子是空穴,源漏区的掺杂类型是P型,所以,PMOS的工作条件是在栅上相对于源极施加负电压,亦即在PMOS的栅上施加的是负电压,而在衬底感应的是可运动的正电荷空穴和带固定正电荷的耗尽层,不考虑二氧化硅中存在的电荷的影响,衬底中感应的正电荷数量就等于PMOS栅上的负电荷的数量。当达到强反型时,在相对于源端为负的漏源电压的作用下,源端的正电荷空穴经过导通的P型沟道到达漏端,形成从源到漏的源漏电流。同样地,VGS越负(绝对值越大),沟道的导通电阻越小,电流的数值越大。

与NMOS一样,导通的PMOS的工作区域也分为非饱和区,临界饱和点和饱和区。当然,不论NMOS还是PMOS,当未形成反型沟道时,都处于截止区,其电压条件是

VGS

值得注意的是,PMOS的VGS和VTP都是负值。

PMOS集成电路是一种适合在低速、低频领域内应用的器件。PMOS集成电路采用-24V电压供电。CMOS-PMOS接口电路采用两种电源供电。采用直接接口方式,一般CMOS的电源电压选择在10~12V就能满足PMOS对输入电平的要求。

MOS场效应晶体管具有很高的输入阻抗,在电路中便于直接耦合,容易制成规模大的集成电路。

各种场效应管特性比较

在2004年12月的国际电子器件会议(IEDM)上表示:双应力衬垫(DSL)方法导致NMOS和PMOS中的有效驱动电流分别增加15%和32%,饱和驱动电流分别增加11%和20%。PMOS的空穴迁移率在不使用SiGe的情况下可以提高60%,这已经成为其他应变硅研究的焦点。2100433B

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PMOS管造价信息

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PE

  • PE;型号、规格:PE16;PE16
  • m
  • 绿态
  • 13%
  • 深圳市宸洲环保科技有限公司
  • 2022-12-08
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PE

  • PE;型号、规格:4/7毛;PE4/7毛
  • m
  • 绿态
  • 13%
  • 深圳市宸洲环保科技有限公司
  • 2022-12-08
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PE

  • PE;型号、规格:PE20;1.无规共聚聚丙烯(PE)给水 DN20×2.0 PN1.252.壁厚:1.2mm
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  • 绿态
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  • 深圳市宸洲环保科技有限公司
  • 2022-12-08
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通信系列:PE实壁

  • 规格(mm)Ф25;壁厚(1.8)
  • m
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  • 公元管道(广东)有限公司
  • 2022-12-08
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通信系列:PE实壁

  • 规格(mm)Ф25;壁厚(2)
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  • 公元牌
  • 13%
  • 公元管道(广东)有限公司
  • 2022-12-08
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф32
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  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф110
  • m
  • 阳江市2011年1月信息价
  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф250
  • m
  • 阳江市2011年1月信息价
  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф400
  • m
  • 阳江市2011年1月信息价
  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф32
  • m
  • 阳江市2009年12月信息价
  • 建筑工程
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数学原理

  • 制作原型转盘,转盘内按照数学定理设计不同形状液体容器和道,观众旋转转盘,通过观察其中定量液体形态及珠子走向形态等变化,了解勾股定理、圆锥与圆柱以及概率的数学原理
  • 1项
  • 1
  • 中高档
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  • 2022-10-24
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数学原理

  • 制作原型转盘,转盘内按照数学定理设计不同形状液体容器和道,观众旋转转盘,通过观察其中定量液体形态及珠子走向形态等变化,了解勾股定理、圆锥与圆柱以及概率的数学原理
  • 1项
  • 1
  • 中高档
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  • 2022-09-16
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数学原理

  • 制作原型转盘,转盘内按照数学定理设计不同形状液体容器和道,观众旋转转盘,通过观察其中定量液体形态及珠子走向形态等变化,了解勾股定理、圆锥与圆柱以及概率的数学原理
  • 1项
  • 1
  • 中档
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  • 2022-08-15
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数学原理

  • 制作原型转盘,转盘内按照数学定理设计不同形状液体容器和道,观众旋转转盘,通过观察其中定量液体形态及珠子走向形态等变化,了解勾股定理、圆锥与圆柱以及概率的数学原理
  • 1项
  • 1
  • 高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-09-14
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伯努利原理

  • 0.4×0.28×0.31、展品用材:①底座:碳钢板喷塑②台面:橘黄色亚克力,厚度≧6mm③说明牌:亚克力UV喷绘④演示机构:亚克力2、主要配置:①按钮:AL6Y-A优质圆形开关 自锁带灯按钮 Ф
  • 1台
  • 2
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2022-08-30
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PMOS管种类

MOSFET共有三个脚,一般为G、D、S,通过G、S间加控制信号时可以改变D、S间的导通和截止。PMOS和NMOS在结构上完全相像,所不同的是衬底和源漏的掺杂类型。简单地说,NMOS是在P型硅的衬底上,通过选择掺杂形成N型的掺杂区,作为NMOS的源漏区;PMOS是在N型硅的衬底上,通过选择掺杂形成P型的掺杂区,作为PMOS的源漏区。两块源漏掺杂区之间的距离称为沟道长度L,而垂直于沟道长度的有效源漏区尺寸称为沟道宽度W。对于这种简单的结构,器件源漏是完全对称的,只有在应用中根据源漏电流的流向才能最后确认具体的源和漏。

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PMOS管介绍

金属氧化物半导体场效应(MOS)晶体管可分为N沟道与P沟道两大类, P沟道硅MOS场效应晶体管在N型硅衬底上有两个P 区,分别叫做源极和漏极,两极之间不通导,栅极上加有足够的负电压(源极接地)时,栅极下的N型硅表面呈现P型反型层,成为连接源极和漏极的沟道。改变栅压可以改变沟道中的电子密度,从而改变沟道的电阻。这种MOS场效应晶体管称为P沟道增强型场效应晶体管。如果N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道,加上适当的偏压,可使沟道的电阻增大或减小。这样的MOS场效应晶体管称为P沟道耗尽型场效应晶体管。统称为PMOS晶体管。 P沟道MOS晶体管的空穴迁移率低,因而在MOS晶体管的几何尺寸和工作电压绝对值相等的情况下,PMOS晶体管的跨导小于N沟道MOS晶体管。此外,P沟道MOS晶体管阈值电压的绝对值一般偏高,要求有较高的工作电压。它的供电电源的电压大小和极性,与双极型晶体管——晶体管逻辑电路不兼容。PMOS因逻辑摆幅大,充电放电过程长,加之器件跨导小,所以工作速度更低,在NMOS电路(见N沟道金属—氧化物—半导体集成电路)出现之后,多数已为NMOS电路所取代。只是,因PMOS电路工艺简单,价格便宜,有些中规模和小规模数字控制电路仍采用PMOS电路技术。

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PMOS管原理常见问题

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PMOS管原理文献

pMOS金属栅极材料的研究进展 pMOS金属栅极材料的研究进展

pMOS金属栅极材料的研究进展

格式:pdf

大小:2.7MB

页数: 10页

随着金属氧化物半导体场效应管(metal-oxide-semiconductor field-effect transistors,MOSFETs)等比缩小迈向45nm技术节点,金属栅极已应用于新型MOSFET器件,改善了与高k栅介质的兼容性,并消除了传统多晶硅栅极的栅耗尽及硼穿透等效应.文章综述了pMOS器件金属栅极材料的发展历程、面临的主要问题以及未来的研究趋势等.

顶管的工作原理 顶管的工作原理

顶管的工作原理

格式:pdf

大小:2.7MB

页数: 1页

江阴市新桥建筑工程构件厂 江阴市新桥建筑工程构件厂 顶管的工作原理 工作原理 顶管技术是一项用于市政施工的非开挖掘进式管道铺设施工技 术。优点在于不影响周围环境或者影响较小,施工场地小,噪音小。 而且能够深入地下作业, 这是开挖埋管无法比拟的优点。 但是顶管技 术也有缺点,施工时间较长,工程造价高等。 顶管施工是继盾构施工之后而发展起来的一种地下管道施工方 法,它不需要开挖面层,并且能够穿越公路、铁道、河川、地面建筑 物、地下构筑物以及各种地下管线等。 顶管施工借助于主顶油缸及管 道间中继间等的推力, 把工具管或掘进机从工作井内穿过土层一直推 到接收井内吊起。 与此同时,也就把紧随工具管或掘进机后的管道埋 设在两井之间,以期实现非开挖敷设地下管道的施工方法。 江阴市新桥建筑工程构件厂始建于一九九五年, 位于江阴市东大 门,紧邻张家港市区。座落在毛纺之乡——新桥镇。本厂是一家专业 生产水泥管

Mos管开关电路P沟道MOS管开关电路

PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,适合用于源极接VCC时的情况(高端驱动)。需要注意的是,Vgs指的是栅极G与源极S的电压,即栅极低于电源一定电压就导通,而非相对于地的电压。但是因为PMOS导通内阻比较大,所以只适用低功率的情况。大功率仍然使用N沟道MOS管。

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P沟MOS晶体管P沟MOS晶体管

改变栅压可以改变沟道中的电子密度,从而改变沟道的电阻。这种MOS场效应晶体管称为P沟道增强型场效应晶体管。如果N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道,加上适当的偏压,可使沟道的电阻增大或减小。这样的MOS场效应晶体管称为P沟道耗尽型场效应晶体管。统称为PMOS晶体管。

P沟道MOS晶体管的空穴迁移率低,因而在MOS晶体管的几何尺寸和工作电压绝对值相等的情况下,PMOS晶体管的跨导小于N沟道MOS晶体管。此外,P沟道MOS晶体管阈值电压的绝对值一般偏高,要求有较高的工作电压。它的供电电源的电压大小和极性,与双极型晶体管——晶体管逻辑电路不兼容。PMOS因逻辑摆幅大,充电放电过程长,加之器件跨导小,所以工作速度更低,在NMOS电路(见N沟道金属—氧化物—半导体集成电路)出现之后,多数已为NMOS电路所取代。只是,因PMOS电路工艺简单,价格便宜,有些中规模和小规模数字控制电路仍采用PMOS电路技术。

PMOS集成电路是一种适合在低速、低频领域内应用的器件。PMOS集成电路采用-24V电压供电。如图1所示的CMOS-PMOS接口电路采用两种电源供电。采用直接接口方式,一般CMOS的电源电压选择在10~12V就能满足PMOS对输入电平的要求。

MOS场效应晶体管具有很高的输入阻抗,在电路中便于直接耦合,容易制成规模大的集成电路。

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mos晶体管简介

​MOS晶体管金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)结构的晶体管简称MOS晶体管,有P型MOS管和N型MOS管之分。MOS管构成的集成电路称为MOS集成电路,而PMOS管和NMOS管共同构成的互补型MOS集成电路即为CMOS-IC。

金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)结构的晶体管简称MOS晶体管,有P型MOS管和N型MOS管之分。MOS管构成的集成电路称为MOS集成电路,而PMOS管和NMOS管共同构 成的互补型MOS集成电路即为CMOS-IC

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