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PMOS管种类

PMOS管种类

MOSFET共有三个脚,一般为G、D、S,通过G、S间加控制信号时可以改变D、S间的导通和截止。PMOS和NMOS在结构上完全相像,所不同的是衬底和源漏的掺杂类型。简单地说,NMOS是在P型硅的衬底上,通过选择掺杂形成N型的掺杂区,作为NMOS的源漏区;PMOS是在N型硅的衬底上,通过选择掺杂形成P型的掺杂区,作为PMOS的源漏区。两块源漏掺杂区之间的距离称为沟道长度L,而垂直于沟道长度的有效源漏区尺寸称为沟道宽度W。对于这种简单的结构,器件源漏是完全对称的,只有在应用中根据源漏电流的流向才能最后确认具体的源和漏。

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PMOS管造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

PE

  • PE;型号、规格:PE16;PE16
  • m
  • 绿态
  • 13%
  • 深圳市宸洲环保科技有限公司
  • 2022-12-08
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PE

  • PE;型号、规格:4/7毛;PE4/7毛
  • m
  • 绿态
  • 13%
  • 深圳市宸洲环保科技有限公司
  • 2022-12-08
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PE

  • PE;型号、规格:PE20;1.无规共聚聚丙烯(PE)给水 DN20×2.0 PN1.252.壁厚:1.2mm
  • m
  • 绿态
  • 13%
  • 深圳市宸洲环保科技有限公司
  • 2022-12-08
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通信系列:PE实壁

  • 规格(mm)Ф25;壁厚(1.8)
  • m
  • 公元牌
  • 13%
  • 公元管道(广东)有限公司
  • 2022-12-08
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通信系列:PE实壁

  • 规格(mm)Ф25;壁厚(2)
  • m
  • 公元牌
  • 13%
  • 公元管道(广东)有限公司
  • 2022-12-08
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф32
  • m
  • 阳江市2011年1月信息价
  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф110
  • m
  • 阳江市2011年1月信息价
  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф250
  • m
  • 阳江市2011年1月信息价
  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф400
  • m
  • 阳江市2011年1月信息价
  • 建筑工程
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(A)

  • PVC-U环保排水材,配件Ф32
  • m
  • 阳江市2009年12月信息价
  • 建筑工程
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(1)种类:红继木

  • (1)种类:红继木 (2)冠丛高:自然高120,冠幅120
  • 6.0株
  • 3
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-04-10
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(1)种类:多宝树

  • (1)种类:多宝树 (2)胸径或干径:≥18cm/杆 (3)株高、冠径:高800-900,冠幅550-600
  • 1.0株
  • 1
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-04-10
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1.种类:幌伞枫

  • 1.种类:幌伞枫 2.胸径:20-25cm 3.枝下高:300-350cm 4.树高:500-600cm 5.冠幅:300-350cm
  • 45株
  • 3
  • 高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2015-08-03
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1.种类:银桦

  • 1.种类:银桦 2.胸径:25-30cm 3.枝下高:250-300cm 4.树高:550-650cm 5.冠幅:650-700cm
  • 12株
  • 3
  • 高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2015-08-03
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(1)种类:大腹木棉A

  • (1)种类:大腹木棉A (2)胸径或干径:40cm (3)株高、冠径:高800-900,冠幅400-500
  • 4.0株
  • 3
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-04-10
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PMOS管介绍

金属氧化物半导体场效应(MOS)晶体管可分为N沟道与P沟道两大类, P沟道硅MOS场效应晶体管在N型硅衬底上有两个P 区,分别叫做源极和漏极,两极之间不通导,栅极上加有足够的负电压(源极接地)时,栅极下的N型硅表面呈现P型反型层,成为连接源极和漏极的沟道。改变栅压可以改变沟道中的电子密度,从而改变沟道的电阻。这种MOS场效应晶体管称为P沟道增强型场效应晶体管。如果N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道,加上适当的偏压,可使沟道的电阻增大或减小。这样的MOS场效应晶体管称为P沟道耗尽型场效应晶体管。统称为PMOS晶体管。 P沟道MOS晶体管的空穴迁移率低,因而在MOS晶体管的几何尺寸和工作电压绝对值相等的情况下,PMOS晶体管的跨导小于N沟道MOS晶体管。此外,P沟道MOS晶体管阈值电压的绝对值一般偏高,要求有较高的工作电压。它的供电电源的电压大小和极性,与双极型晶体管——晶体管逻辑电路不兼容。PMOS因逻辑摆幅大,充电放电过程长,加之器件跨导小,所以工作速度更低,在NMOS电路(见N沟道金属—氧化物—半导体集成电路)出现之后,多数已为NMOS电路所取代。只是,因PMOS电路工艺简单,价格便宜,有些中规模和小规模数字控制电路仍采用PMOS电路技术。

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PMOS管原理

PMOS的工作原理与NMOS相类似。因为PMOS是N型硅衬底,其中的多数载流子是电子,少数载流子是空穴,源漏区的掺杂类型是P型,所以,PMOS的工作条件是在栅上相对于源极施加负电压,亦即在PMOS的栅上施加的是负电压,而在衬底感应的是可运动的正电荷空穴和带固定正电荷的耗尽层,不考虑二氧化硅中存在的电荷的影响,衬底中感应的正电荷数量就等于PMOS栅上的负电荷的数量。当达到强反型时,在相对于源端为负的漏源电压的作用下,源端的正电荷空穴经过导通的P型沟道到达漏端,形成从源到漏的源漏电流。同样地,VGS越负(绝对值越大),沟道的导通电阻越小,电流的数值越大。

与NMOS一样,导通的PMOS的工作区域也分为非饱和区,临界饱和点和饱和区。当然,不论NMOS还是PMOS,当未形成反型沟道时,都处于截止区,其电压条件是

VGS

值得注意的是,PMOS的VGS和VTP都是负值。

PMOS集成电路是一种适合在低速、低频领域内应用的器件。PMOS集成电路采用-24V电压供电。CMOS-PMOS接口电路采用两种电源供电。采用直接接口方式,一般CMOS的电源电压选择在10~12V就能满足PMOS对输入电平的要求。

MOS场效应晶体管具有很高的输入阻抗,在电路中便于直接耦合,容易制成规模大的集成电路。

各种场效应管特性比较

在2004年12月的国际电子器件会议(IEDM)上表示:双应力衬垫(DSL)方法导致NMOS和PMOS中的有效驱动电流分别增加15%和32%,饱和驱动电流分别增加11%和20%。PMOS的空穴迁移率在不使用SiGe的情况下可以提高60%,这已经成为其他应变硅研究的焦点。2100433B

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PMOS管种类常见问题

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PMOS管种类文献

pMOS金属栅极材料的研究进展 pMOS金属栅极材料的研究进展

pMOS金属栅极材料的研究进展

格式:pdf

大小:2.7MB

页数: 10页

随着金属氧化物半导体场效应管(metal-oxide-semiconductor field-effect transistors,MOSFETs)等比缩小迈向45nm技术节点,金属栅极已应用于新型MOSFET器件,改善了与高k栅介质的兼容性,并消除了传统多晶硅栅极的栅耗尽及硼穿透等效应.文章综述了pMOS器件金属栅极材料的发展历程、面临的主要问题以及未来的研究趋势等.

灯管种类 灯管种类

灯管种类

格式:pdf

大小:2.7MB

页数: 5页

灯管 紫外线灯管 紫外线灯管则简称 UV灯管,其中紫外线即 Ultraviolet ,简称 UV。按波 段的不同,分别为 UV-A,UV-B,UV-C各具有不同的用途。 1、低压紫外线灯管即 杀菌灯 则主要用于杀菌消毒,另外 UV-B还主要用 于紫外线检验,医疗治疗等。 2、强紫外线高压紫外线灯管由高品质的纯石英管材制造而成,使紫外线 能高程度及大量的穿透,其弧长度 / 发光长度可由 5厘米至 300 厘米不等,常 见功率为每厘米 30W至 200W,超大功率 UV灯一般在每厘米 200W或以上操作, 该灯光谱有效范围在 350-450nm 之间,主波峰为 365nm,有 700 多个品种, 功率由 100w-25kw。 紫外线灯管的寿命一般指其能维持足够的能量进行操作的时间,在此期 间其能量逐渐衰减直至低于可接受的范围为止, 一般情况标准的 UV灯能放射 足够的 UV能量达 800 小时

Mos管开关电路P沟道MOS管开关电路

PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,适合用于源极接VCC时的情况(高端驱动)。需要注意的是,Vgs指的是栅极G与源极S的电压,即栅极低于电源一定电压就导通,而非相对于地的电压。但是因为PMOS导通内阻比较大,所以只适用低功率的情况。大功率仍然使用N沟道MOS管。

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P沟MOS晶体管P沟MOS晶体管

改变栅压可以改变沟道中的电子密度,从而改变沟道的电阻。这种MOS场效应晶体管称为P沟道增强型场效应晶体管。如果N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道,加上适当的偏压,可使沟道的电阻增大或减小。这样的MOS场效应晶体管称为P沟道耗尽型场效应晶体管。统称为PMOS晶体管。

P沟道MOS晶体管的空穴迁移率低,因而在MOS晶体管的几何尺寸和工作电压绝对值相等的情况下,PMOS晶体管的跨导小于N沟道MOS晶体管。此外,P沟道MOS晶体管阈值电压的绝对值一般偏高,要求有较高的工作电压。它的供电电源的电压大小和极性,与双极型晶体管——晶体管逻辑电路不兼容。PMOS因逻辑摆幅大,充电放电过程长,加之器件跨导小,所以工作速度更低,在NMOS电路(见N沟道金属—氧化物—半导体集成电路)出现之后,多数已为NMOS电路所取代。只是,因PMOS电路工艺简单,价格便宜,有些中规模和小规模数字控制电路仍采用PMOS电路技术。

PMOS集成电路是一种适合在低速、低频领域内应用的器件。PMOS集成电路采用-24V电压供电。如图1所示的CMOS-PMOS接口电路采用两种电源供电。采用直接接口方式,一般CMOS的电源电压选择在10~12V就能满足PMOS对输入电平的要求。

MOS场效应晶体管具有很高的输入阻抗,在电路中便于直接耦合,容易制成规模大的集成电路。

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mos晶体管简介

​MOS晶体管金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)结构的晶体管简称MOS晶体管,有P型MOS管和N型MOS管之分。MOS管构成的集成电路称为MOS集成电路,而PMOS管和NMOS管共同构成的互补型MOS集成电路即为CMOS-IC。

金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)结构的晶体管简称MOS晶体管,有P型MOS管和N型MOS管之分。MOS管构成的集成电路称为MOS集成电路,而PMOS管和NMOS管共同构 成的互补型MOS集成电路即为CMOS-IC

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