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砷化铟

砷化铟是由铟和砷构成的Ⅲ一V族化合物半导体材料。

砷化铟基本信息

砷化铟功能用途

InAs晶体具有较高的电子迁移率和迁移率比值(μe/μh=70),低的磁阻效应和小的电阻温度系数,是制造霍耳器件和磁阻器件的理想材料。InAs的发射波长3.34μm,在InAs衬底上能生长晶格匹配的In—GaAsSb、InAsPSb和InAsSb多元外延材料,可制造2~4μm波段的光纤通信用的激光器和探测器。

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砷化铟造价信息

  • 市场价
  • 信息价
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沥青

  • 沥青;规格型号:PC-3 阳离子(+),破乳速度:中裂;蒸发残留物沥青含量≥50%;延度(25℃)≥40cm;溶解度≥97.5%;品牌:路洁
  • t
  • 路洁
  • 13%
  • 广州路洁经贸发展有限公司
  • 2022-12-08
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朱槿

  • 高度25-35cm,冠幅25-35cm
  • 瀚艺
  • 13%
  • 南宁瀚艺生态苗圃种植基地
  • 2022-12-08
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朱槿

  • 高度35-45cm,冠幅25-35cm
  • 瀚艺
  • 13%
  • 南宁瀚艺生态苗圃种植基地
  • 2022-12-08
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三氧二锑98

  • 三氧二锑98%
  • t
  • 缘江牌
  • 13%
  • 上海缘江化工有限公司
  • 2022-12-08
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改性树脂专用固

  • PCG310改性树脂专用固
  • kg
  • 东方雨虹
  • 13%
  • 深圳东方雨虹防水工程有限公司
  • 2022-12-08
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玻璃

  • 6mmF绿钢
  • 湛江市2009年1季度信息价
  • 建筑工程
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玻璃

  • 12mmF绿钢
  • 湛江市2009年1季度信息价
  • 建筑工程
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玻璃

  • 6mmF绿钢
  • 湛江市2008年3季度信息价
  • 建筑工程
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玻璃

  • 10mmF绿钢
  • 湛江市2008年3季度信息价
  • 建筑工程
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玻璃

  • 12mmF绿钢
  • 湛江市2008年3季度信息价
  • 建筑工程
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标液

  • 浓度1000mg/L50ml/瓶
  • 4瓶
  • 3
  • 国家有色金属及电子材料中心、北京环标科创、坛墨质检等
  • 中档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2021-09-27
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标样

  • 20mL安瓿瓶
  • 10瓶
  • 3
  • 国家有色金属及电子材料中心、北京环标科创、坛墨质检等
  • 中档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2021-09-27
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检测套件

  • 4053
  • 2台
  • 1
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2013-12-20
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、汞重金属在线分析仪

  • 1.名称:、汞重金属在线分析仪 2.型号:满足设计要求 3.规格:0.005-10mg/lAs,0-2μg/lHg,智能更换, 220VAC供电,modbus输出,带继电器故障输出,IP655
  • 1套
  • 2
  • 杭州绿洁
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-06-21
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汞、工作电极

  • Istran E-T Au
  • 2.0个
  • 1
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2014-04-10
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砷化铟物理结构

常温呈银灰色固体,具有闪锌矿型的晶体结构,晶格常数为0.6058nm,密度为5.66g/cm(固态)、5.90g/cm(熔点时液态)。能带结构为直接跃迁,禁带宽度(300K)0.45eV。

InAs在熔点(942℃)时砷的离解压只有0.033MPa,可在常压下由熔体生长单晶。常用的有HB和LEC方法,单晶直径达φ50mm。

InAs是一种难于纯化的半导体材料。非掺In.As单晶的剩余载流子浓度高于l×10/cm,室温电子迁移率3.3×10^3cm/(V·s),空穴迁移率460cm/(V·s)。硫在In.As中的有效分凝系数接近1,故用作n型掺杂剂,以提高纵向载流子浓度分布的均匀性。工业用的InAs(s)单晶,n≥1×10/cm3,μ≤2.0×10cm/(V·s),EPD≤5×10/cm。

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砷化铟常见问题

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砷化铟文献

沟槽衬底砷化镓-铝镓砷双异质结条形激光器 沟槽衬底砷化镓-铝镓砷双异质结条形激光器

沟槽衬底砷化镓-铝镓砷双异质结条形激光器

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大小:127KB

页数: 未知

半导体激光器是光纤通信系统最有希望的光源.但是由于横模不稳定引起的L-I(光功率—电源)特性的扭曲,严重地影响了它的应用范围.因此,努力改进其性能,特别是控制其横模得到了广泛的重视.本文所报导的沟槽衬底条形激光器工艺简单,而且在沿结平面方向因第一外延层n-Al_(0.3)Ga_(0.7) As厚度变化引起了有效折射率的变化,产生了一定的波导作用,从而稳定了横模.同时这种激光器的作用区是圆弧形的,有利于跟光纤的耦合.沟槽衬底条形激光器的横向电流限制是用沟槽区外的p-n-p-n结构实现的.它的制造工艺主要是采用普通的化学腐蚀和液相外延.首先在(100)取向的n-GaAs衬底上扩散Zn形成一层厚约 2微米的P-GaAs,

氧化铟基本信息

中文名称:氧化铟

中文别名:氧化铟(III);纳米氧化铟;三氧化二铟;氧化铟/纳米氧化铟;

英文名称:Indium Oxide

英文别名:Diindium trioxide,Indium sesquioxide;Indium(III) oxide;Diindium trioxide Indium sesquioxide;

Diindium trioxide,Indium sesquioxide,Indium(III) oxide;Indium oxide;

CAS号:1312-43-2

分子式:In2O3

分子量:277.63400

精确质量:277.79200

PSA:43.37000

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INP磷化铟 (InP)

磷化铟

indium phosphide InP

分子式: InP

沥青光泽的深灰色晶体。熔点1070℃。闪锌矿结构,常温下带宽(Eg=1.35 eV)

熔点下离解压为2.75MPa。极微溶于无机酸。相对介电常数12.5。电子迁移率4600cm2/(V·s)。空穴迁移率150cm2/(V·s)。具有半导体的特性。由金属铟和赤磷在石英管中加热反应制得。用作半导体材料,用于光纤通信技术。2100433B

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铟锌氧化物简介

薄膜晶体管(TFT)在平板显示领域有着广泛的应用。铟锌氧化物薄膜晶体管具有电子迁移率高、开关比大、均匀性好、透光性佳、电学稳定性好等优点,在平板显示及柔性集成电路等方面取得广泛应用。铟锌氧化物薄膜具有高迁移率和电阻率可控的特点,是一种有前景的氧化物半导体材料,已被用于制备氧化物薄膜晶体管。

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