第1章 绪论

参考文献

第2章 光催化反应原理

2.1光化学基本原理

2.1.1光化学反应

2.1.2电子跃迁

2.2半导体光催化反应理论

2.2.1半导体光催化的理论基础

2.2.2光催化反应热力学分析

2.2.3光催化反应动力学分析

2.2.4光催化反应机理

参考文献

第3章 三氧化钨的制备方法

3.1普通WO3的制备方法

3.1.1普通WO3的制备方法

3.1.2普通法所得WO3的表征

3.2高活性WO3的制备方法

3.2.1固相法

3.2.2液相法

3.2.3气相法

3.2.4超声化学法

3.3制备WO3其他方法

参考文献

第4章 复合半导体光催化剂

4.1半导体复合意义

4.2半导体复合类型

4.2.1半导体-半导体复合

4.2.2半导体-绝缘体复合

4.2.3复合半导体薄膜

4.3半导体复合方法

4.4半导体WO3/α-Fe2O3复合体系

4.4.1光催化反应机理

4.4.2比较光催化剂活性

4.4.3复相催化剂WO3/α-Fe2O3/W的组成与COD、色度去除率的关系

4.4.4复相光催化剂用量与COD、色度去除率的关系

4.4.5试液的pH值与COD、色度去除率的关系

4.4.6光照时间与COD、色度去除率的关系

4.5半导体WO3与稀土氧化物复合体系

4.5.1 WO3/CeO2复合体系

4.5.2 Y2O3/WO3复合体系

4.6半导体WO3与TiO2复合体系

4.6.1热处理温度对催化剂形貌及其光催化活性的影响

4.6.2 WO3/TiO2-NRs的物性

4.6.3 WO3/TiO2-NRs的光催化活性

4.7半导体WO3与CdS复合体系

4.7.1催化剂的组成与COD、色度去除率的关系

4.7.2复相催化剂用量与COD、色度去除率的关系

4.7.3试液的pH值与COD、色度去除率的关系

4.7.4光照时间与COD、色度去除率的关系

参考文献

第5章 金属离子掺杂光催化剂

5.1钇离子掺杂WO3光催化体系

5.1.1 Y3+掺杂WO3样品的晶体结构

5.1.2掺杂样品表面性质的XPS谱分析

5.1.3掺杂样品的UV-Vis漫反射光谱性质

5.1.4光催化分解水析氧活性

5.2 La3+掺杂WO3光催化剂

5.2.1 La3+掺杂WO3的晶体结构

5.2.2 La3+掺杂WO3样品光催化活性

5.3 Eu3+掺杂WO3光催化剂

5.3.1催化剂的表征

5.3.2铕掺杂对RB在WO3上吸附量的影响

5.3.3pH对光催化降解效率的影响

5.3.4铕掺杂对WO3光催化活性的影响

5.4 Tb3+掺杂WO3光催化剂

5.4.1 Tb3+/WO3光催化材料的结构表征

5.4.2 Tb3+掺杂对WO3光催化降解率的影响

5.4.3 Tb3+掺杂量对WO3光催化降解率的影响

5.4.4焙烧温度对WO3光催化降解率的影响

5.4.5溶液pH值对Tb-WO3光催化降解率的影响

5.5 Dy掺杂WO3光催化剂

5.5.1光降解中间产物的色谱及质谱分析

5.5.2不同光照时间后RB的UV-Vis光谱

5.6 Gd和TiO2掺杂WO3光催化剂

5.6.1催化剂的表征

5.6.2 Gd、TiO2掺杂对RB在WO3上吸附量的影响

5.6.3 pH对WO3和Gd/TiO2/WO3光催化活性的影响

5.6.4 Gd、TiO2掺杂及其掺杂量对WO3光催化活性的影响

参考文献

第6章 三氧化钨光催化剂应用

6.1在处理无机污染物领域中的应用

6.1.1无机阴离子或气体有害物质的降解

6.1.2金属离子的光催化还原

6.1.3无机合成

6.2在处理有机污染物领域中的应用

6.2.1有机物的光催化降解

6.2.2光催化氧化降解染料废水

6.2.3光催化氧化降解造纸废水

6.2.4光催化氧化技术处理一般工业废水

6.2.5光催化氧化技术处理渗滤液的研究

6.2.6光催化氧化技术降解水面有机污染物膜

6.2.7光敏剂协助光催化氧化法对处理厂的二级废水进行消毒

6.2.8光催化有机合成

6.3在光解水制氢方面应用

6.3.1掺杂Ce的WO3样品的晶体结构

6.3.2掺杂样品表面性质的XPS谱分析

6.3.3掺杂样品的UV-Vis漫反射光谱性质

6.3.4 WO3及不同Ce掺杂量WO3样品的光致发光性质

6.3.5 Ce/WO3光解水析氧的催化活性

参考文献

《三氧化钨光催化剂制备及应用》第1章阐述了光催化技术发展过程;第2章主要阐述光催化反应原理;第3章着重阐述三氧化钨光催化剂制备方法;第4章讲述复合半导体光催化剂;第5章讲述金属离子掺杂光催化剂;第6章讲述三氧化钨光催化剂应用。本书是笔者根据多年从事光催化技术科研和教学经验，并参考国内外该领域的众多科研论文及图书资料编著而成。本书由崔玉民、李慧泉、张坤著。

先用钨酸钙与盐酸反应生成钨酸沉淀，然后钨酸高温分解成为三氧化钨和水。

CaWO4 + 2HCl → CaCl2 + H2WO4

H2WO4 → H2O + WO3

氧化剂存在下，仲钨酸铵热分解：

(NH4)10[H2W12O42]·4H2O → 12 WO3 + 10NH3 + 11H2O

色谱已有100余年的历史，它一开始就是为制备性分离而产生的，其目的在于分离制备一种或多种纯组分。虽然制备型色谱的研究目前处于一个相对平稳的阶段，但其应用却仍方兴未艾，常压柱色谱、低压柱色谱、中压制备色谱、高压制备液相色谱等仍是现代科学研究及生产实践中不可取代的制备性分离手段。一些专门进行有机合成的工作者往往一年可利用上百根色谱柱进行合成产物的制备性分离，甚至一天之内可进行三次以上的柱色谱操作;一些植物化学工作者70%以上的实验时间是用在使用制备色谱进行分离之上;在一些多肽、多糖、蛋白质、手性药物以及天然产物等的生产上，现代制备色谱是其必不可少的分离单元。

制备色谱技术在大多数情况下是在非线性条件下进行工作，它的理论深奥、公式复杂、进样量大、固定相和溶剂量多、成本较高，分离过程中常常因为操作者技术水平方面的原因达不到预期的制备性分离目的。其与线性条件下的色谱分析相比往往具有很大的不同，并且有些制备色谱技术本身只具备制备的特点。制备色谱技术包括了从实验室分离几毫克至几克样品的小型制备色谱直至工业用大规模制备纯物质的生产制备色谱。

本书的撰写紧紧围绕制备色谱的基础理论，避免制备色谱理论中繁杂的数学推导，充分注重方法的可操作性和实用性，比较系统、全面、详细地介绍多种制备色谱技术。第二版对各章进行了不同程度的调整或者补充，完善了不足的部分，加强了色谱操作技术;扩展了凝胶色谱，充实了高速逆流色谱的pH区带提取、手性分离、粒子分离章节;新增了大孔吸附柱色谱、台锥形柱色谱、二维高压制备液相色谱、膜分离等较多内容。但读者要系统地了解色谱基础理论和知识，至少仍需阅读本丛书中的《色谱分析概论》(第二版)分册。

本书是在本人近30年的科研和教学实践基础上写成的，部分内容受到国家自然科学基金(No.29665001、No.30160092、No.20775066、No.21075109)、教育部第三届"高校青年教师奖"(No.2001298)、云南省重点项目(No.2005E0006Z、No.99YBL-04)等10余个课题的资助。书中的较多素材直接取材于本人的研究或者与本人研究密切相关的资料文献，并与本人所编著的《手性识别材料》(科学出版社，2010)具有很好的相关性。

衷心感谢我的硕士生导师--云南大学宋文俊教授、博士生导师--北京理工大学傅若农教授、博士后导师--日本名古屋大学Y. Okamoto教授，是他们将我带入"手性识别材料及技术"领域，进行探索性的研究工作。感谢北京市新技术应用研究所张天佑教授在高速逆流色谱领域曾给予的细心指导，感谢丛书编委会以及责任编辑的辛勤工作。

本书的撰写得益于谌学先、艾萍、字敏、段爱红、李正宇等同事多年的合作以及课题组数十位博士及硕士研究生的研究，在此一并表示衷心的感谢。

由于水平的有限，书中错误和不足在所难免，敬请专家和读者给予批评指正。

袁黎明