具有弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用氟气(F₂)溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3的混酸)。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(二氧化硅)，生成气态的四氟化硅 反应方程式如下: 

SiO₂(s) + 4 HF(aq) → SiF4↑ + 2 H₂O(l)

正因如此，它必须储存在塑料(理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好)、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。

工业制法:工业上用氟氢化钾加热至500℃进行热分解或用萤石(氟化钙CaF2)和浓硫酸加热到700℃时来制备氢氟酸。

KHF2 --(500℃)→ KF + HF

CaF2 + H2SO4 (浓)→(加热) 2 HF + CaSO4

这样收集到的氟化氢常含有水，硅及硫的化合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏等方法来提纯。 这个反应生成的蒸气是氟化氢、硫酸和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。

氟气与氢气混合后立刻爆炸，生成氟化氢

F₂(g)+H₂(g)=2HF(g)