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六氟乙烷可用于一种具多功能的蚀刻技术,常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。叧外,它亦用于蚀刻硅上的二氧化硅。
六氟乙烷可连同三氟甲烷一起用于制冷剂R508A(六氟乙烷占61%)及R508B(六氟乙烷占54%)。