在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致报废、次品。在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。因此水的质量相当重要。采用反渗透加EDI的脱盐工艺，可以达到超纯水标准。