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半导体单晶及III-V族化合物合成用的坩埚、基座:
原位合成GaAs、InP、GaP单晶的LEC系列坩埚。
分子束外延用的MBE系列坩埚。
VGF、VB法系列坩埚。
PBN/PG复合加热器涂层。
石墨加热器绝缘涂层。
高温绝缘流体喷嘴。
MOCVD绝缘板。
异形坩埚及异形石墨件涂层。
晶片退火工艺用复合加热器。
