半导体二氧化钛已被广泛应用于有机污染物的光催化降解，但其主要是通过光与二氧化钛作用产生的羟基自由基与有机污染物发生自由基氧化反应，这种自由基反应在降解污染物时没有选择性，当几种有机污染物共存时，它优先催化降解吸附在其表面的高浓度污染物，而低浓度的有机污染物因吸附量少而达不到有效降解。

十年来，制备具有选择性光催化降解有机污染物的催化剂的研究取得了一定的进展。各类方法中对各类污染物均适用并具有较高选择性的还是首推分子印迹技术。虽然利用分子印迹 TiO2 进行选择性降解低浓度高毒性有机污染物方面已取得一些进展，但目前针对这一新型材料的研究还属刚刚起步，尤其是性能更优越、更有前途的全无机型的分子印迹 TiO2 光催化材料的开发与制备，很多问题都还处于探讨和研究中。例如，从材料制备的简单化、提高催化材料的稳定性以及提高污染物的传质效率、光利用效率方面都有待提高和解决。

如何在 TiO2 的制备过程中，利用分子印迹技术，直接在材料中制备印迹活性位点，将比普遍报道的 TiO2 纳米颗粒外面包覆有机印迹聚合物层或 SiO2 分子印迹层制备的复合材料要优越得多。然而，这样的报道还很少见，一方面是因为合成 TiO2 的钛源物质与目标分子的配位能力比较弱，难以在制备 TiO2 的过程中形成印迹位点; 另一方面是因为普遍报道的包覆式多层结构设计往往导致材料的传质效率降低，成为影响最终催化效率的控制步骤。

今后研究的重点都将围绕这些问题展开，并有望产生突破。另外也可以利用各种性能优良的改性选择性吸附材料( 石墨烯，导电聚合物，活性炭，沸石，硅藻土，碳纳米管，蒙脱石等) 与 TiO2 杂化，制备具有高选择性高吸附性能的光催化材料也可能是一种途径。总之，低浓度、高毒性有机污染物可以通过选择性光催化降解得以有效治理。