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电镀锌铜合金电镀液常见问题

2018/06/19174 作者:佚名
导读:分析使用仪器设备 在分析的过程中一般常用的大型仪器设备有:核磁(NMR),气质联用(GCMS),质谱(MS),红外(FTIR),X荧光分析仪(XRF),液质联用(LCMS),热重分析(TGA)等。 游离氰化物不足 在氰化镀铜中,游离氰化物不足时,应添加氰化钠(或钾)。如加入氰化亚铜,则使游离氰化物进一步降低,铜镀层变得结晶粗大和粗糙。

分析使用仪器设备

在分析的过程中一般常用的大型仪器设备有:核磁(NMR),气质联用(GCMS),质谱(MS),红外(FTIR),X荧光分析仪(XRF),液质联用(LCMS),热重分析(TGA)等。

游离氰化物不足

在氰化镀铜中,游离氰化物不足时,应添加氰化钠(或钾)。如加入氰化亚铜,则使游离氰化物进一步降低,铜镀层变得结晶粗大和粗糙。

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