氧化镁及氢氧化镁的生产方法，在专著《镁化合物生产与应用》中做了全面的论述，这里不再赘述。制备纳米氢氧化镁的主要方法有金属镁水化法、水镁石粉碎法和化学液相沉淀法等。这里先介绍前两种方法和化学液相沉淀法中的直接沉淀法、水热法、全反混均质乳化法、全反混液膜法、超重力法，撞击流法、旋转圆盘反应器，再着重介绍我们的气泡液膜法和气泡液膜反应器及有关内容。
金属镁水化法制氢氧化镁有两种工艺：第一种是乙二胺络合法，用高纯（99.999%）的金属镁粉为原料，产物为纳米Mg(OH)2棒，可用来生产超导体添加剂纳米MgO棒。
这种方法对原料和设备的要求特别高，制备成本高。第二种是固-液相电弧放电法，用镁带作电极，0.5mol /L的NaCl水溶液为电解液，在40-200V电弧放电处理5min，制得直径为8-10nm，长度约250nm的Mg(OH)2棒。
产品纯度高，但成本也高，产率低，难实现工业化生产。
水镁石粉碎法选择相对纯净的天然水镁石等为原料，在助磨剂存在下，经搅拌磨湿法研磨，级分，表面处理，获得达到预期目标的超细粉体。
例如，先制备40%的矿浆，采用0.8-1,6mm的氧化锆微珠为研磨介质，研磨介质：物料=5：1，助磨剂三乙醇胺为水镁石的0.5%，转速1350rpm，研磨3h， d97 =1.86μm。
目前，这种粉体已经形成批量生产，供应市场。但是，因高品质的水镁石矿藏资源有限，耗能高，粒子的尺寸一般0.7-3μm或更大，尺度和形状分布宽，达产品品质低。
化学液相沉淀法制备纳米氢氧化镁的基本反应式如下：
Mg 2OH = Mg(OH)2↓
Mg来源为MgCl2·6H2O或其它镁盐。在工业上Mg来源为海洋卤水、盐湖卤水和含镁的矿物。沉淀剂主要采用NaOH（氢氧化钠法），NH3或NH3·H2O（氨法），Ca(OH)2（氢氧化钙法）或NH2CONH2(均相法)等。近些年来，在此基础上提出了各式各样制备纳米氢氧化镁的新工艺和设备。
现将其中主要的几种介绍如下。
在表面活性剂存在下，将沉淀剂NaOH溶液或NH3-H2O加到含有Mg的溶液中（正向沉淀法），或者将含有Mg的溶液加到沉淀剂NaOH溶液或NH3-H2O中（反向沉淀法），Mg(OH)2从溶液中沉淀出来。在已发表的有关纳米氢氧化镁制备的论文中，大部分作者采用了直接沉淀法，设备为实验室的常规化学器皿，工业上采用传统的化工设备。直接沉淀法制得的纳米氢氧化镁易团聚，粒径分布宽。用NaOH为沉淀剂时，反应条件苛刻，不易控制；用NH3-H2O或NH3为沉淀剂时，易环境污染；用Ca(OH)2为沉淀时，产品纯度低，副产物钙盐难处理。
沉淀-水热法制纳米氢氧化镁是将含有Mg的溶液正向或反向加料，与沉淀剂NaOH溶液、NH3或NH3-H2O反应，先制得Mg(OH)2沉淀，分离或不分离，再将Mg(OH)2和溶剂（水、有机或水和有机混合溶剂）加到高压釜中，在100-250℃的高温下处理，制得高纯度的氢氧化镁。这实质上是将沉淀法制得的氢氧化镁进行重结晶，即沉淀-溶解-结晶过程。
用氨水为沉淀剂的水热法中试实例，将50L浓度为2 mol/L的确MgCl2水溶液加入反应釜中，于40-90℃与等当量的NH3水反应，过滤，洗涤，打浆，加入水热反应器，于200℃循环加热3-4h,再经过滤，洗涤和干燥，制得粒径为0.35-0.6μm的氢氧化镁。水热法的特点是产品的纯度高，粒径和形态分布均匀，但粒径较大，一般在0.5~5μm，需要高温高压设备，间歇式操作。
将镁盐溶液和碱液在高剪切均质乳化反应器中进行沉淀反应。这种反应器由具有微孔的定子和齿轮转子构成。转子的转速为3000-8000rpm，加入反应物料后，瞬间受到多次剪切作用，发生沉淀反应，生成粒径为50-200nm的氢氧化镁。高剪切均质乳化反应器与胶体磨相似，实际上未实现微观均匀混合，产物粒径分布宽，未见工业化生产报道。
在全返混液膜反应器中进行镁盐溶液和碱液的沉淀反应，使成核/晶化隔离进行，分别控制条件。全返混液膜反应器的结构。转子的转速为1000-8000rpm，成核时间1-20min，反应液于70-180℃晶化1-24h，降温至15-60℃，搅拌1-24h，再升温至70-180℃，循环1-6次，可制得粒度为80-105nm的氢氧化镁。显然，对于Mg与OH的快速反应，“成核/晶化隔离进行”实在不易，如果是在高温下“晶化”，这种方法实质上是在进行沉淀-水热法操作，反应物长时间返混，操作冗长，生产成本高。这里提出了用机械磨擦产生液膜。
主要设备是超重力机，又称为旋转填充床，分丝网填料和碟片填料两种。利用300-2900rpm旋转的填充床产生的超重力，将反应液均匀混合，并拉伸为液丝、液膜、液滴，极大地强化传质，传热，极大地强化反应。超重力法制备纳米氢氧化镁已经取得了成功，实现了工业规模生产。但是，在液丝、液膜、液滴三种不同的反应环境中进行沉淀反应，注定所得产物的粒径和形态不均匀；填充床有可能被氢氧化镁沉淀堵塞。这种方法中，反应物在超重力作用下，一部分形成液膜。
撞击流法采用喷射式撞击流反应结晶器，镁盐溶液和碱液分别高压喷射，对撞击，达到快速微观混合，湍流效果明显，可形成很高的过饱和度，快速成核。由于喷射速度可调而实现产物的粒度可控。通过控制结晶过程达到制备高纯氢氧化镁的目的。例如Mg浓度0.25mol/L，Mg：OH=1：2，撞击流速100mL/min，反应温度40℃。搅拌转速400rpm,搅拌时间30min， 所得产物为六方晶体，粒度13.5nm，纯度99%以上。显然，这中反应器来自分子束反应器，当镁盐溶液和碱液喷射流较大时，将达不到微观混合均匀，将出现产品的粒径和形态分布不均匀，难实现工业规模生产。
用自旋圆盘反应器（Spinning Disk Reactor）合成纳米氢氧化镁，再经焙烧制氧化镁。用两个泵分别将MgCl2和NaOH水溶液注入反应器，分配到高速旋转的圆盘上，由于离心力的作用，使反应液形成薄膜，发生沉淀反应，生成纳米氢氧化镁。工艺条件为Mg浓度0.20-0.92mol/L，Mg：OH=1：2，反应温度40℃，圆盘转速：400~2000rpm,反应液流速：0.28L/min ，产物为六方晶体，粒度54.6-74.8nm。实现了1L规模的小试。由于在自旋圆盘上缺少将两种反应液快速混合均匀的机构，因此粒径和形态分布的均匀性受到影响。
除了上述几种制备纳米氢氧化镁的方法外，还演绎出各式各样的方法，各有千秋，促进了化学液相法制备纳米氢氧化镁技术的进展。这些方法多注重获得粒径小，粒径和形态均匀的产物。
