所谓“快速(Rapid )”一词首次出现在1968年Mammels的专利文件“工件热处理的方法(Method of Heat Treatment of Workpieces )”中[65]，后来有多种术语如等温退火(Isothermal Annealing )，热脉冲退火(Heat Pulse Annealing)等，现在快速热退火(Rapid Thermal Annealing)和快速热处理(Rapid ThermalProcessing)具有同样的内涵。

实际上，RTP是半导体制造业中最复杂部分之一，它包含相关知识有:量子力学，固体物理，光学，工程学。然而，RTP系统的基本原理非常简单。过去人们对RTP系统接受很慢，主要是因为注入退火和热处理需要优良的温控制系统和测温系统，而且，它只是单片处理。但是，现在随着超亚微米器件的发展，使人们重新认识到RTP系统在半导体制造(特别是微电子行业)中的重要作用。 RTP系统刚出现时，通常采用激光连续光源，但出于对辐射光谱的作用和操作方便的考虑，RTP系统朝着基于非连续光源的方向发展，然而在RTP发展历史上，这一设想没有得到市场的认可，这部分导致RTP系统发展的停滞和科学合理的发展。

因此，过去RTP系统没有吸引大公司去研发解决关键的技术难题。然而传统的批量炉被证实是可靠、低成本的一技术，所以RTP系统的推广应用一直受到限制。现在，RTP在微电子器件生产中得到了一定的应用。许多人在设计灯的结构和加热灯的布置、控制均匀性上作了大量的研究[60, 66-b8J。但是基于卤素灯加热的RTP系统在制造环境中仍有好多问题。