参考配方1：
| 组成 |
含量（g/L） |
成分作用 |
| NaOH |
250~300g/L |
碱性腐蚀剂 |
| NaNO3 |
200~250 g/L |
/ |
| Na2SiO3 |
10~15 g/L |
缓蚀剂 |
| 硫脲 |
15~25 g/L |
缓蚀剂 |
| 十二烷基硫酸钠 |
1.5~1.8 g/L |
润湿剂 |
| 水 |
加至1L |
/ |
此抛光液的工作温度60~70℃;抛光时间80~100 s。使用复配缓蚀剂的抛光效果好，工艺简单，抛光速度快；同时，废水处理简单，适宜于小型铝合金工件抛光。
参考配方2：
铝合金碱性研磨抛光液：由磨料I、磨料II、表面活性剂、PH调节剂以及去离子水组成。
| 组成 |
百分含量 |
成分作用 |
| 水溶性二氧化硅 |
20~40% |
磨料，粒径小于100nm |
| 气相二氧化硅 |
5~15% |
磨料，粒径为100~300nm |
| 脂肪醇聚氧乙烯醚(0-20) |
0.5~2% |
表面活性剂 |
| 四甲基氢氧化胺 |
3~10% |
PH调节剂 |
| 水 |
余量 |
/ |
其中表面活性剂为聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚(0-20)、聚合度为25的脂肪醇聚氧乙烯醚(O-25)或者聚合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚(O-40)、月桂酞单乙醇胺中的一种；PH调节剂为无机碱（氢氧化钾、氢氧化钠）或有机碱（三乙醇胺、四经基乙二胺、六经基丙基丙二胺乙二胺、四甲基氢氧化胺）中的一种或多种。
