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金属材料检测平台技术指标

2022/07/15144 作者：佚名
导读：1.分辨率： 高真空二次电子像：不低于3nm @30kV，不低于10nm @3kV。 低真空背散射电子像：不低于4.0nm @30kV。 2.电子光学系统： 3.样品室及样品台： 1）内部尺寸：不小于365mm（直径）×275mm（高） 2）样品台马达移动范围：不小于120mm（X方向），120mm（Y方向），50mm（Z方向），0-90°（倾斜），360°（旋转）。 4.探测器： 1）高真空二次

1.分辨率： 高真空二次电子像：不低于3nm @30kV，不低于10nm @3kV。 低真空背散射电子像：不低于4.0nm @30kV。 2.电子光学系统： 3.样品室及样品台： 1）内部尺寸：不小于365mm（直径）×275mm（高） 2）样品台马达移动范围：不小于120mm（X方向），120mm（Y方向），50mm（Z方向），0-90°（倾斜），360°（旋转）。 4.探测器： 1）高真空二次电子探测器。

*文章为作者独立观点，不代表造价通立场，除来源是“造价通”外。
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