如图1至7所示，《一种提高LED亮度的蓝宝石图形化衬底制备方法》包括：用于形成图形的蓝宝石衬底1及其预设的蓝宝石衬底图形5，其特征为蓝宝石衬底图形5形成于蓝宝石衬底1之上，是一种按照一定规律排布的图形。
一种用于提高LED亮度的蓝宝石图形化衬底的制备方法，包括以下步骤：
A、首先在经洁净处理的蓝宝石衬底1表面制备一层氧化锌薄膜2（如图1所示），具体可以采用磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备氧化锌薄膜2；
B、在氧化锌薄膜2表面涂上一层紫外正向光刻胶（如图2所示）。利用光刻技术对涂有光刻胶的氧化锌薄膜进行光刻（如图3所示），曝光时间为260msc，可根据所需求对曝光机参数进行调整；对氧化锌薄膜进行HF热腐蚀5分钟（如图4所示），使用除胶液去除氧化锌薄膜上的光刻胶（如图5所示）。
C、在氧化锌薄膜2表面制备一层圆柱形氧化锌纳米棒阵列4（如图6所示），具体可以采用水热法制备氧化锌纳米棒阵列，氧化锌纳米棒阵列4的直径为20纳米，其直径可以根据形成蓝宝石衬底图形进行调节；氧化锌纳米棒阵列4的高度为100纳米，其高度可以根据形成蓝宝石衬底图形的形貌进行调节。
D、采用等离子体对生长了氧化锌纳米棒阵列4的蓝宝石衬底进行刻蚀处理，以形成蓝宝石衬底图形5（如图7所示），采用BCl3 CHF3作为刻蚀气体进行干法刻蚀，刻蚀反应室内上轰击功率为1700瓦，下轰击功率为40瓦，轰击时间为1600秒-2000秒，反应室内温度为30℃-50℃。
实施例1
在经过表面处理后的蓝宝石衬底表面通过磁控溅射法制备一层厚度为3微米氧化锌的薄膜，在氧化锌薄膜表面凃上一层紫外正向光刻胶，厚度为2微米，利用光刻技术对涂有光刻胶的氧化锌薄膜进行光刻，曝光时间为260msc，对氧化锌薄膜进行HF热腐蚀5分钟，使用除胶液去除氧化锌薄膜上的光刻胶，采用水热法制备直径为20纳米，高度为100纳米氧化锌纳米棒阵列，对生长了氧化锌纳米棒阵列蓝宝石衬底进行等离子刻蚀处理，采用BCl3 CHF3作为刻蚀气体进行干法刻蚀，刻蚀反应室内上轰击功率为1700瓦，下轰击功率为40瓦，轰击时间为1600秒，反应室内温度为30℃，表面为锯齿状的三角锥形图形，表面粗糙度为20纳米，光强为6坎德拉。
实施例2
在经过表面处理后的蓝宝石衬底表面通过磁控溅射法制备一层厚度为3微米氧化锌的薄膜，在氧化锌薄膜表面凃上一层紫外正向光刻胶，厚度为2微米，利用光刻技术对涂有光刻胶的氧化锌薄膜进行光刻，曝光时间为260msc，对氧化锌薄膜进行HF热腐蚀5分钟，使用除胶液去除氧化锌薄膜上的光刻胶，采用水热法制备直径为20纳米，高度为100纳米氧化锌纳米棒阵列，对生长了氧化锌纳米棒阵列蓝宝石衬底进行等离子刻蚀处理，采用BCl3 CHF3作为刻蚀气体进行干法刻蚀，刻蚀反应室内上轰击功率为1700瓦，下轰击功率为40瓦，轰击时间为1700秒，反应室内温度为35℃，表面为锯齿状的三角锥形图形，表面粗糙度为80纳米，光强为7.5坎德拉。
实施例3
在经过表面处理后的蓝宝石衬底表面通过磁控溅射法制备一层厚度为3微米氧化锌的薄膜，在氧化锌薄膜表面凃上一层紫外正向光刻胶，厚度为2微米，利用光刻技术对涂有光刻胶的氧化锌薄膜进行光刻，曝光时间为260msc，对氧化锌薄膜进行HF热腐蚀5分钟，使用除胶液去除氧化锌薄膜上的光刻胶，采用水热法制备直径为20纳米，高度为100纳米氧化锌纳米棒阵列，对生长了氧化锌纳米棒阵列蓝宝石衬底进行等离子刻蚀处理，采用BCl3 CHF3作为刻蚀气体进行干法刻蚀，刻蚀反应室内上轰击功率为1700瓦，下轰击功率为40瓦，轰击时间为1800秒，反应室内温度为40℃，表面为锯齿状的三角锥形图形，表面粗糙度为200纳米，光强为10坎德拉。
实施例4
在经过表面处理后的蓝宝石衬底表面通过磁控溅射法制备一层厚度为3微米氧化锌的薄膜，在氧化锌薄膜表面凃上一层紫外正向光刻胶，厚度为2微米，利用光刻技术对涂有光刻胶的氧化锌薄膜进行光刻，曝光时间为260msc，对氧化锌薄膜进行HF热腐蚀5分钟，使用除胶液去除氧化锌薄膜上的光刻胶，采用水热法制备直径为20纳米，高度为100纳米氧化锌纳米棒阵列，对生长了氧化锌纳米棒阵列蓝宝石衬底进行等离子刻蚀处理，采用BCl3 CHF3作为刻蚀气体进行干法刻蚀，刻蚀反应室内上轰击功率为1700瓦，下轰击功率为40瓦，轰击时间为1900秒，反应室内温度为45℃，表面为锯齿状的三角锥形图形，表面粗糙度为350纳米，光强为8坎德拉。
实施例5
在经过表面处理后的蓝宝石衬底表面通过磁控溅射法制备一层厚度为3微米氧化锌的薄膜，在氧化锌薄膜表面凃上一层紫外正向光刻胶，厚度为2微米，利用光刻技术对涂有光刻胶的氧化锌薄膜进行光刻，曝光时间为260msc，对氧化锌薄膜进行HF热腐蚀5分钟，使用除胶液去除氧化锌薄膜上的光刻胶，采用水热法制备直径为20纳米，高度为100纳米氧化锌纳米棒阵列，对生长了氧化锌纳米棒阵列蓝宝石衬底进行等离子刻蚀处理，采用BCl3 CHF3作为刻蚀气体进行干法刻蚀，刻蚀反应室内上轰击功率为1700瓦，下轰击功率为40瓦，轰击时间为2000秒，反应室内温度为50℃，表面为锯齿状的三角锥形图形，表面粗糙度为500纳米，光强为5坎德拉。
