稀土抛光粉是研磨剂之王，稀土抛光粉的主要成分是二氧化钵，它是研磨剂中的佼佼者。过去，被用作研磨剂的主要有二氧化硅、二氧化锆和三氧化二铁，但它们都没有稀土抛光粉的研磨效果好，所以才逐渐被稀土抛光粉所取代。经过几十年的研制、生产和应用，稀土抛光粉已经形成三大类品级：（1）低品级抛光粉内含CeO₂45%-50%，用量最多；（2）中品级抛光粉内含CeO₂85%-90%，用量较少；（3）高品级抛光粉内含CeO₂90%-99%，用量更少。

产稀土抛光粉的原料主要有两种：（1）氟碳铈矿精矿。用它生产抛光粉虽然价格便宜，但由于产品质量差，所以用途不广。（2）混合氯化稀土。用它生产抛光粉虽然价格贵些，但由于产品质量好，所以用途较广。

稀土抛光粉已被广泛应用于各种平板玻璃、光学玻璃、精密金属制品、显像管、示波管、眼镜片、半导体晶片等产品的抛光。眼下，生产稀土抛光粉的国家主要有美国、法国、独联体、日本和中国。据统计，全世界的稀土抛光粉年生产能力为5500t，实际年生产量为5000t，实际年消耗量为4800t。我国稀土抛光粉的生产能力、生产量和消耗量分别占全世界总数的13%、9%和10%。我国1994、1995和2000年稀土抛光粉的年产量分别为500t、600t一650t和1000t。