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集成电路用高纯钛溅射靶材主要内容

2022/07/1699 作者:佚名
导读:本标准规定了集成电路用高纯钛溅射靶材的术语、定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量承诺和服务保证。 本标准适用于集成电路中制造电子薄膜用的各类钛溅射靶材。

本标准规定了集成电路用高纯钛溅射靶材的术语、定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量承诺和服务保证。

本标准适用于集成电路中制造电子薄膜用的各类钛溅射靶材。

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