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热处理装置简介

2022/07/16195 作者：佚名
导读：热处理装置(1)包括具有用于向基板处理部(5)供给热风的热风供给部件(14)的空气调整部(11)、以及用于对基板进行热处理的热处理室(12)。热处理装置(1)配置有催化壁(40)，载持有促进在热处理室(12)的最下游一侧、当处理基板时所产生的生成气体的氧化分解的催化剂。因此，热处理装置(1)因冷却生成气体而产生的所谓的升华物的产生量极低。此外，由于在生成气体氧化分解时会产生反应热，所以热处理装置(

热处理装置(1)包括具有用于向基板处理部(5)供给热风的热风供给部件(14)的空气调整部(11)、以及用于对基板进行热处理的热处理室(12)。热处理装置(1)配置有催化壁(40)，载持有促进在热处理室(12)的最下游一侧、当处理基板时所产生的生成气体的氧化分解的催化剂。因此，热处理装置(1)因冷却生成气体而产生的所谓的升华物的产生量极低。此外，由于在生成气体氧化分解时会产生反应热，所以热处理装置(1)在热处理时加热混合气体只需很少的耗电量。2100433B

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