IC 制造业是关系到国家命运的基础性产业，是国民经济发展中极其重要的一个支柱性产业，它几乎存在于所有工业领域，这些领域包括：电气工程领域、机械制造领域、航天领域和国防领域等。IC 制造业的发展甚至决定一个国家竞争实力和装备水平，欧美、日本和韩国等国家都把 IC 制造业作为国家发展的战略性产业，美国半导体咨询委员会在国情咨文中称其为“生死攸关的工业”，韩国称其为“工业粮食”，一些发达国家GDP 增长的 60%~70%与以集成电路为代表的电子产业有关 。

由于我国在 IC 制造业起步较晚，整体科技水平落后，加之发达国家对我国在芯片制造核心技术、关键设备、IP 核和关键原材料等方面技术封锁，使我国的芯片生产水平仍然与欧美及日本等发达国家有十分大的差距，落后上述国家 3-5 代。近几年，我国对 IC 制造业的发展也加大了力度，首先，随着我国“中国芯”产业化进程加快，我国 IC 制造业面临着难得的发展机遇和挑战。其次，我国在“中国制造 2025 规划”的高档数控机床和机器人领域中，重点提到了基础制造装备及 IC 制造业的发展规划。此外，IC 制造业的发展还具有非常重要的战略意义，因此，IC 制造业的研发和生产制造受到了世界各国日益重视。

IC 制造业的核心技术是光刻机设备的发展，世界上有三大光刻机生产商：荷兰 ASML、日本 NIKON和 CANON 公司，掌握绝大数光刻机专利，其中，ASML 公司光刻机代表着国际最先进的技术水平，该公司最先进的 Twinscan光刻机采用双工件台技术，其中工件台和掩模台是光刻机系统最为关键的子系统，两者主要完成光刻机系统调整对焦和扫描曝光等功能，其关键技术涉及精密机械加工、精密测量、运动控制和驱动控制等技术。 光刻机技术发展的核心指标为晶圆尺寸、线宽和产品率，其中线宽决定了集成电路的复杂度和功能密度 。