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高效液相外延生长提纯冶金硅的机理及强化机制研究结题摘要

2022/07/16104 作者:佚名
导读:冶金法是一种新型的多晶硅制备技术,主要利用硅和杂质物理化学性质的差异,采用多步骤集成的方式去除杂质。其中定向凝固技术是去除金属杂质的重要手段,主要利用杂质在固液两相间的分凝效应达到提纯目的。但是受到固液界面杂质分配规律及杂质传质动力学的限制,一次定向凝固提纯效果不够,只能通过多次重复的方式提高多晶硅纯度,并且对分凝系数接近1的B、P等杂质无法去除。我们前期研究表明,在固态硅与含有第二组元的硅基合金

冶金法是一种新型的多晶硅制备技术,主要利用硅和杂质物理化学性质的差异,采用多步骤集成的方式去除杂质。其中定向凝固技术是去除金属杂质的重要手段,主要利用杂质在固液两相间的分凝效应达到提纯目的。但是受到固液界面杂质分配规律及杂质传质动力学的限制,一次定向凝固提纯效果不够,只能通过多次重复的方式提高多晶硅纯度,并且对分凝系数接近1的B、P等杂质无法去除。我们前期研究表明,在固态硅与含有第二组元的硅基合金熔体形成的固液界面处,杂质的分凝系数会明显降低,有利于提纯。本项目提出采用温度梯度区域熔炼法(TGZM)在Si-Al合金中生长初晶硅,在完成除杂的同时,整块分离初晶硅,解决合金凝固精炼中出现的初晶硅回收问题。探索了块体硅的结晶形核生长机制,明确了影响块体硅生长形貌及生长速率的各类因素,最后分析了杂质的分布情况及去除效率。同时研究了在Al-Si合金精炼工艺的基础上引入稳恒电流,利用电流带来的电迁移、焦耳热等多种效应对硅原子的作用,改变初晶的析出行为,加强杂质的分凝过程。为针对性去除冶金硅中的杂质提供理论基础。 2100433B

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