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低温等离子体表面强化技术

《低温等离子体表面强化技术》是2015年出版的图书,作者是刘爱国。

低温等离子体表面强化技术基本信息

低温等离子体表面强化技术图书目录

第1章绪论

1.1机械零部件的失效

1.2磨损失效

1.3腐蚀失效

1.4低温等离子体表面强化

参考文献

第2章等离子体与等离子体源

2.1等离子体的概念和特点

2.1.1等离子体

2.1.2等离子体产生的方式

2.1.3等离子体的温度

2.1.4等离子体的特点

2.2冷等离子体

2.2.1直流辉光放电等离子体

2.2.2脉冲辉光放电等离子体

2.2.3磁控等离子体

2.2.4电容耦合射频等离子体

2.2.5电感耦合射频等离子体

2.2.6微波等离子体

2.3热等离子体

2.3.1电弧

2.3.2真空电弧等离子体

2.3.3等离子弧

2.3.4等离子弧的压缩作用

2.3.5等离子弧的分类

2.3.6等离子弧的特点

2.4等离子体源

2.4.1热阴极等离子体源

2.4.2电容耦合射频等离子体源

2.4.3电感耦合射频等离子体(ICP)源

2.4.4螺旋波等离子体源

2.4.5微波等离子体源

2.4.6空心阴极等离子体源

2.4.7金属蒸气真空电弧(MEVVA)等离子体源

2.4.8磁控管

参考文献

第3章等离子体辅助物理气相沉积

3.1物理气相沉积的概念和分类

3.2溅射沉积

3.2.1溅射沉积的原理

3.2.2直流溅射沉积

3.2.3射频溅射沉积

3.2.4磁控溅射沉积

3.3真空电弧沉积

3.3.1真空电弧沉积的原理及其优缺点

3.3.2真空电弧沉积的宏观颗粒污染

3.3.3阳极电弧沉积

3.4离子镀

参考文献

第4章等离子体增强化学气相沉积

4.1等离子体增强化学气相沉积的原理

4.1.1等离子体对CVD过程的影响

4.1.2PECVD沉积薄膜的形成过程

4.2等离子体增强化学气相沉积的特点

4.2.1PECVD的优点

4.2.2PECVD的缺点

4.3等离子体增强化学气相沉积技术

4.3.1PECVD技术分类

4.3.2PECVD工艺装置

4.3.3PECVD工艺参数

4.3.4直流等离子体增强化学气相沉积技术(DC—PECVD)

4.3.5脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(脉冲DC—PECVD)

4.3.6射频等离子体增强化学气相沉积(RF—PECVD)

4.3.7微波等离子体增强化学气相沉积(MW—PECVD)

4.3.8电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(ECR—PECVD)

参考文献

第5章等离子化学热处理

5.1等离子渗氮

5.1.1等离子渗氮原理

5.1.2等离子渗氮钢的组织

5.1.3等离子渗氮工艺参数

5.1.4等离子渗氮设备

5.1.5等离子渗氮优缺点

5.1.6等离子渗氮新进展

5.2等离子渗碳

5.2.1等离子渗碳原理

5.2.2等离子渗碳组织

5.2.3等离子渗碳工艺参数

5.2.4等离子渗碳设备

5.2.5等离子渗碳优缺点

5.3等离子渗氮碳

5.3.1等离子渗氮碳原理

5.3.2等离子渗氮碳组织

5.3.3等离子渗氮碳工艺参数

5.4等离子渗金属

5.4.1双层辉光等离子渗金属原理

5.4.2双层辉光等离子渗金属组织

5.4.3双层辉光等离子渗金属工艺参数

5.4.4双层辉光等离子渗金属特点

5.4.5双层辉光等离子渗金属设备

5.4.6双层辉光等离子渗金属技术的发展

参考文献

第6章等离子体浸没离子注入与沉积

6.1等离子体浸没离子注人原理

6.1.1等离子体浸没离子注入原理

6.1.2动态鞘层扩展模型

6.1.3PIII的优缺点

6.2PIII设备

6.2.1真空系统

6.2.2等离子体源

6.2.3高压系统

6.2.4供气系统

6.3等离子体浸没离子注入与沉积

6.4金属等离子体浸没离子注入与沉积

6.5PIIID在耐磨防腐方面的应用

参考文献

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低温等离子体表面强化技术造价信息

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低温等离子

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  • 2018-08-31
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低温等离子体表面强化技术内容简介

低温等离子体具有化学活性高,能够和电磁场产生相互作用的特点,在表面强化领域有着得天独厚的优势。将等离子体作为表面强化的处理环境或处理材料,可以降低处理温度、加快处理速度、提高处理质量、增强强化效果、降低处理成本、延长零部件使用寿命。

从实际应用角度阐述低温等离子体在表面强化领域的应用。首先对低温等离子体的本质、不同等离子体源的特性进行了探讨,然后介绍等离子体辅助物理气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、等离子体辅助热处理、等离子体浸没离子注入与沉积、电弧喷涂、等离子喷涂以及堆焊等各种低温等离子体表面强化技术的原理、设备和应用。

本书可作为从事材料表面强化工作的技术人员、高等学校相关专业研究生和高年级本科生的参考书。

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低温等离子体表面强化技术常见问题

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低温等离子体表面强化技术文献

低温等离子体氯化聚氯乙烯(CPVC)气固相合成技术 低温等离子体氯化聚氯乙烯(CPVC)气固相合成技术

低温等离子体氯化聚氯乙烯(CPVC)气固相合成技术

格式:pdf

大小:265KB

页数: 4页

提出了一种采用低温等离子体快速引发PVC氯化的气固相氯化聚氯乙烯(CPVC)合成方法。通过等离子体振动床在线氯化分析方法,探究了等离子体的高效引发氯化效率。通过拉曼光谱、固相NMR、GPC等典型表征手段,证明产品CPVC具有较为理想的微观结构。

材料表面强化技术内容简介

本书按表面强化层形成的物理化学过程对表面强化技术进行分类,形成了表面强化技术的系统化与科学体系。重点阐述了水溶液沉积、固态相变等。

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低温等离子体技术原理

低温等离子体技术原理,当外加电压达到气体的放电电压时,气体被击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。低温等离子体技术在气态污染物治理方面优势显著,低温等离子体等离子体内部产生富含极高化学活性的粒子,如电子、离子、自由基和激发态分子等。废气中的污染物质与这些具有较高能量的活性基团发生反应,最终转化为CO2和H2O等物质,从而达到净化废气的目的。

其净化作用机理包含两个方面:一是在产生等离子体的过程中,高频放电所产生的瞬间高能足够打开一些有害气体分子的化学能,使之分解为单质原子或无害分子;二是等离子体中包含大量的高能电子、正负离子、激发态粒子和具有强氧化性的自由基,这些活性粒子和部分臭气分子碰撞结合,在电场作用下,使臭气分子处于激发态。当臭气分子获得的能量大于其分子键能的结合能时,臭气分子的化学键断裂,直接分解成单质原子或由单一原子构成得无害气体分子。同时产生的大量·OH、·HO2、·O等活性自由基和氧化性极强的O3,与有害气体分子发生化学反应,最终生成无害产物。

低温等离子体中的高能电子可使电负性高的气体分子(如氧分子、氮分子)带上电子而成为负离子,它具有许多良好的健康效应,对人体及其他生物的生命活动有着十分重要的影响,被人们誉为“空气维生素”、“长寿素”。

低温等离子体的净化作用还具备显著的生物效应。发生的静电作用在各种细菌、病毒等微生物表面产生的电能剪切力大于细胞膜表面张力,使细胞膜遭到破坏,导致微生物死亡。因此低温等离子体除臭技术具有优秀的消毒杀菌之功效。

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材料表面强化技术目录

第1章绪论1

11表面工程学科体系1

111表面工程的功能1

112表面强化技术是表面工程的核心内容3

113表面强化技术的分类4

114强化层的性能取决于成分与结构6

115材料物理基础和表面物理化学是表面工程的基础理论6

116磨损理论、腐蚀理论和断裂理论是表面工程的相关理论8

12表面预处理8

121除油8

122除锈9

123机械法清理10

13涂层的机械加工11

131涂层的切削加工11

132涂层的磨削加工11

14表面分析技术11

141显微镜12

142表面成分和原子状态分析14

143表面晶体结构分析16

15表面层性能测试与检验17

151层(膜)的外观检查17

152层(膜)的厚度测量17

153硬度测量19

参考文献20

第2章表面熔融强化21

21基本理论21

211熔体的结晶过程21

212熔体非晶化过程22

213表面熔融强化的分类23

22堆焊23

221概述23

222电弧堆焊24

223埋弧堆焊26

224等离子弧堆焊30

225气体保护自动堆焊34

226氧乙炔焰堆焊37

227电渣堆焊38

228堆焊合金39

23热喷涂40

231基本原理40

232火焰喷涂42

233电弧喷涂(ARC)44

234等离子弧喷涂44

235激光喷涂46

236热喷涂材料49

237热喷涂应用54

24热熔结55

241基本理论55

242真空熔结56

243激光熔凝57

244电子束熔凝59

25热镀60

251概述60

252热镀锌62

253热镀铝65

254热镀锡68

255热镀铅锡69

26电火花表面强化70

261电火花表面强化及其原理70

262电火花强化层的组织与性能72

263电火花强化工艺73

264电火花强化的应用75

27铸渗77

271铸渗及其原理77

272铸渗工艺79

273铸渗在耐磨方面的应用80

28自蔓延高温合成陶瓷涂层83

281基本原理83

282合成Al2O3复合陶瓷钢管84

29搪瓷85

291搪瓷及其基本原理85

292搪瓷工艺88

293搪瓷工艺流程93

294搪瓷及其应用97

210陶瓷上釉103

2101陶瓷103

2102上釉105

2103上釉工艺112

参考文献114

第3章气相沉积技术116

31概述116

311气相沉积及分类116

312气相沉积的物理基础117

313气相沉积层的组织结构118

32物理气相沉积(PVD)119

321真空蒸发镀膜(蒸镀)119

322溅射镀膜121

323离子镀124

33化学气相沉积128

331化学气相沉积及分类128

332常压化学气相沉积装置128

34等离子化学气相沉积(PCVD)131

341基本原理131

342PCVD沉积装置132

35气相沉积的应用134

351耐磨膜134

352润滑膜135

353防蚀膜136

参考文献136

第4章水溶液沉积表面强化138

41概述138

42电镀139

421电镀的基本原理139

422电镀工艺145

43电刷镀159

431刷镀的基本原理159

432刷镀液162

433刷镀工艺164

434刷镀的应用166

44化学镀169

441基本原理169

442化学镀镍及其合金170

443化学镀铜173

444化学镀其他合金173

445复合化学镀173

45转化膜175

451基本原理175

452化学转化膜176

453电化学转化膜185

46金属表面着色194

461引言194

462不锈钢着色194

463铜及其合金着色195

464锌层着色196

465其他金属着色196

47溶胶凝胶镀膜196

471引言196

472溶胶凝胶的基本原理197

473溶胶凝胶法镀膜工艺200

474溶胶凝胶镀膜的应用201

参考文献205

第5章表面固态相变强化——表面淬火207

51基本原理207

52较高能量密度加热表面淬火208

521感应加热表面淬火208

522快速加热表面淬火214

53高能量密度加热表面淬火217

531激光加热表面淬火218

532电子束加热表面淬火222

533等离子弧加热表面淬火224

534其他高能量密度加热表面淬火228

参考文献230

第6章固态扩渗表面强化——化学热处理232

61概述232

611化学热处理的基本原理232

612化学热处理的渗层结构233

613化学热处理的分类及目的234

62提高疲劳强度及耐磨性的化学热处理237

621渗氮237

622氮碳共渗246

623渗碳250

624碳氮共渗259

63提高耐磨性的化学热处理261

631渗硼263

632渗钒和渗其他碳化物形成元素266

633以硼为主的共渗268

64减磨的化学热处理269

641硫氮共渗269

642蒸气处理270

643石墨化渗层270

644镀渗合金层270

65提高耐蚀性的化学热处理271

651渗铬271

652渗硅275

653渗锌276

66提高抗高温氧化的化学热处理276

661渗铝277

662以铬、铝为主的共渗279

参考文献281

第7章表面粉末冶金强化283

71引言283

72轧制烧结表面冶金强化284

73电接触触热焊涂层285

731基本原理285

732电接触触热焊工艺与性能288

733电接触强化的应用292

参考文献294

第8章表面形变强化295

81基本原理295

811概述295

812表面喷丸与滚压、孔挤压强化原理296

82喷丸强化301

821喷丸强化用设备及弹丸301

822喷丸工艺310

823喷丸强化的应用313

83表面滚压和孔挤压强化320

831滚压和孔挤压强化用设备320

832滚压和孔挤压强化321

833滚压、挤压强化的应用321

84机械镀323

841机械镀的分类324

842机械镀镀层形成机理324

843机械镀用设备325

844机械镀工艺326

845机械镀的应用328

参考文献329

第9章离子注入与冲击硬化330

91基本理论330

911离子注入特点330

912发展概况330

913离子注入的物理基础331

914离子注入层的组织结构336

92离子注入装置 340

921离子源340

922加速器342

923质量分析器342

924聚焦、偏转和扫描343

925靶室344

93离子注入工艺344

931材料表面强化用离子注入344

932离子注入工艺345

94离子注入的应用346

941提高表面硬度346

942提高耐磨性347

943提高疲劳性能350

944提高耐蚀性351

945提高抗高温氧化性354

946离子注入在半导体方面的应用356

947离子注入应用于其他材料的表面强化358

参考文献358

第10章化学粘接涂层359

101概论359

102涂料涂层 359

1021涂料的组成359

1022涂料的成膜过程368

1023涂料的分类和命名370

1024涂装方法371

1025防锈和防腐蚀涂料375

1026装饰性涂料383

1027功能性涂料386

1028高固体分涂料391

1029水溶性涂料391

10210非水分散型涂料392

10211防腐蚀涂装实例393

103塑料涂层395

1031引言395

1032粉末涂料的种类396

1033涂塑方法401

1034涂塑的应用405

参考文献410

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